[发明专利]光束控制部件、发光装置及面光源装置有效
申请号: | 201880011635.8 | 申请日: | 2018-02-15 |
公开(公告)号: | CN110291328B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 山田恭平 | 申请(专利权)人: | 恩普乐股份有限公司 |
主分类号: | F21V5/00 | 分类号: | F21V5/00;G02B5/02 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 温剑;陈英俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光束 控制 部件 发光 装置 光源 | ||
1.一种光束控制部件,其对从发光元件射出的光的配光进行控制,包括:
入射面,是以与所述发光元件的光轴相交的方式配置于所述光束控制部件的背面侧的凹部的内表面,具有内侧面和内顶面,且使从所述发光元件射出的光入射;
两个反射面,配置于所述光束控制部件的正面侧,至少使由所述内顶面入射的光的一部分向与所述发光元件的光轴大致垂直且彼此大致反向的两个方向分别反射;以及
两个出射面,以隔着所述两个反射面,在X轴方向上彼此相对的方式配置,使由所述两个反射面反射后的光和由所述内侧面入射的光分别向外部射出,所述X轴方向是以所述发光元件的发光中心为原点且沿着所述两个方向的方向,
所述出射面具有:
第一倾斜面,该第一倾斜面配置于由所述内侧面入射的光直接到达的区域,并随着接近所述X轴而接近所述光轴;以及
垂直面,该垂直面是与所述光轴大致平行的平面,且该垂直面以与所述第一倾斜面接触的方式,配置于由所述内顶面入射的光经所述反射面反射而到达的区域。
2.如权利要求1所述的光束控制部件,其中,
所述出射面的下端处于所述X轴上或比所述X轴更靠正面侧的位置。
3.一种光束控制部件,其对从发光元件射出的光的配光进行控制,包括:
入射面,是以与所述发光元件的光轴相交的方式配置于所述光束控制部件的背面侧的凹部的内表面,具有内侧面和内顶面,且使从所述发光元件射出的光入射;
两个反射面,配置于所述光束控制部件的正面侧,至少使由所述内顶面入射的光的一部分向与所述发光元件的光轴大致垂直且彼此大致反向的两个方向分别反射;以及
两个出射面,以隔着所述两个反射面,在X轴方向上彼此相对的方式配置,使由所述两个反射面反射后的光和由所述内侧面入射的光分别向外部射出,所述X轴方向是以所述发光元件的发光中心为原点且沿着所述两个方向的方向,
所述出射面具有:
第一倾斜面,该第一倾斜面配置于由所述内侧面入射的光直接到达的区域,并随着接近所述X轴而接近所述光轴;
第一出射面,在所述第一倾斜面的外侧,以所述X轴为中心包含在相对于第一虚拟直线成-ψ°~ψ°的角度的范围内,该第一虚拟直线通过所述出射面的下端,且与所述X轴相交并与所述光轴平行,其中,0<ψ<90;
第二出射面,包含在相对于所述第一虚拟直线成ψ°~90°的角度的范围内;以及
第三出射面,包含在相对于所述第一虚拟直线成-ψ°~-90°的角度的范围内,
所述第二出射面具有随着接近所述X轴而接近所述光轴的第二倾斜面,
所述第三出射面具有随着接近所述X轴而接近所述光轴的第三倾斜面,
在与所述发光元件的光轴正交且通过所述出射面的下端的虚拟平面中,所述第二倾斜面及所述第三倾斜面相对于与所述X轴正交的第二虚拟直线的倾斜度,比所述第一倾斜面相对于所述第二虚拟直线的倾斜度大。
4.如权利要求3所述的光束控制部件,其中,
所述第一出射面是与所述光轴大致平行的垂直面。
5.如权利要求3所述的光束控制部件,其中,
所述第二出射面由所述第二倾斜面构成,
所述第三出射面由所述第三倾斜面构成。
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