[发明专利]干擦制品

权利要求书

1.一种干擦制品，所述干擦制品包括：

包含固化硬质涂层组合物的可写表面层，所述固化硬质涂层组合物包含至少2.8重量％且小于9.5重量％的以下项：

i)化合物的反应产物，所述化合物包含C18-C36烃基团和烯属不饱和基团；或

ii)化合物的混合物的反应产物，所述化合物的混合物包含第一化合物和第二化合物，所述第一化合物包含C18-C36烃基团和烯属不饱和基团，所述第二化合物包含C8-C17烃基团和烯属不饱和基团，其中所述第一化合物和所述第二化合物以3:2至4:1的重量比存在。

2.根据权利要求1所述的干擦制品，其中第i)项的所述化合物或第ii)项的所述第一化合物具有下式：

R¹-L-R²

其中R¹为C18-36烃基团；

L为共价键、二价原子或疏水性二价连接基团；

R²为烯属不饱和基团。

3.根据权利要求1所述的干擦制品，其中所述C18-36烃基团为直链亚烷基基团。

4.根据权利要求1所述的干擦制品，其中所述烯属不饱和基团为(甲基)丙烯酸酯基团或乙烯基基团。

5.根据权利要求1所述的干擦制品，其中包含C18-C36烃基团的所述化合物在25℃下是固体。

6.根据权利要求1所述的干擦制品，其中硬质涂层包含一种或多种可聚合材料的反应产物。

7.根据权利要求6所述的干擦制品，其中所述硬质涂层包含至少60重量％的烯属不饱和单体的聚合单元，所述烯属不饱和单体具有至少两个烯属不饱和基团和至少75℃的Tg。

8.根据权利要求6所述的干擦制品，其中所述硬质涂层包含至少60重量％的烯属不饱和低聚物的聚合单元，所述烯属不饱和低聚物具有至少两个烯属不饱和基团。

9.根据权利要求8所述的干擦制品，其中所述低聚物选自聚酯丙烯酸酯低聚物或聚氨酯丙烯酸酯低聚物。

10.根据权利要求7所述的干擦制品，其中所述硬质涂层不含无机氧化物粒子。

11.根据权利要求1所述的干擦制品，其中所述硬质涂层包含至少30重量％的烯属不饱和单体或低聚物的聚合单元以及无机氧化物粒子，所述烯属不饱和单体或低聚物具有至少两个烯属不饱和基团和至少75℃的Tg。

12.根据权利要求1所述的干擦制品，其中当根据永久性标记可擦除性测试进行测试时，永久性标记可从所述表面层完全移除。

13.根据权利要求1所述的干擦制品，其中所述可写表面层置于有机聚合物基底构件上。

14.根据权利要求13所述的干擦制品，其中所述有机聚合物基底构件为膜。

15.一种干擦制品，所述干擦制品包括：

包含固化硬质涂层组合物的可写表面层，所述固化硬质涂层组合物包含化合物的混合物的反应产物，所述化合物的混合物包含第一化合物和第二化合物，所述第一化合物包含C18-C36烃基团和烯属不饱和基团，所述第二化合物包含C8-C17烃基团和烯属不饱和基团，其中所述第一化合物和所述第二化合物以3:2至4:1的重量比存在。

16.根据权利要求15所述的干擦制品，其中所述化合物的混合物以所述固化硬质涂层组合物的至少2.8重量％且小于9.5重量％的量存在。

17.根据权利要求15所述的干擦制品，所述干擦制品的特征还在于权利要求2-14中的任一项或任何组合。