[发明专利]自动分析装置和自动分析装置中的清洗机构

权利要求书

1.一种自动分析装置，包括：

保持反应容器的反应盘；

将试料分注到所述反应容器的试料分注机构；

将试剂分注到所述反应容器的试剂分注机构；

光学系统，该光学系统具备：将光照射到分注至该反应容器的试料与试剂的混合液的光源以及检测从该光源照射的光的检测器；以及

清洗该反应容器的清洗机构，

该自动分析装置基于由该检测器检测到的光分析所述试料，其特征在于，

所述清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴；吸引被提供的该清洗液的清洗液吸引喷嘴；以及设置于所述清洗液吸引喷嘴的下端的清洗头，

所述清洗头的侧面形成为在将所述清洗头插入到所述反应容器的状态下，至少在与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面上、由第一区域与第二区域构成，且所述反应容器的内壁与所述清洗头之间的间隔的体积在所述清洗头的内孔的体积以下，

其中，

所述第一区域包含与从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围即测光范围相重叠的范围，并形成为越朝下方宽度越小，

所述第二区域不包含与该测光范围相重叠的范围，位于所述第一区域的上方，具有与所述第一区域的上端部相同的宽度。

2.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，

该清洗头的侧面上的所述第一区域具有形成为越朝下方宽度越小的锥形体。

3.如权利要求2所述的自动分析装置，其特征在于，

该锥形体形成为倾斜角度为1～5度。

4.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，

所述侧面由4个面构成。

5.如权利要求4所述的自动分析装置，其特征在于，

所述第一区域仅形成于该4个面中的与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面即2个面。

6.如权利要求4所述的自动分析装置，其特征在于，

所述侧面至少具有1个对由该4个面中相邻的2个面形成的角部进行倒角的倒角部。

7.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，

包括对所述清洗机构进行控制的控制部，

所述清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴；以及吸引被提供的该清洗液的第一清洗液吸引喷嘴及第二清洗液吸引喷嘴；

在所述第一清洗液吸引喷嘴的下端设置有清洗头，所述清洗头具有形成为越朝下方宽度越小的锥形体，

所述控制部控制所述清洗机构使得利用所述清洗液供给喷嘴将清洗液提供给分析后的所述反应容器，利用所述第二清洗液吸引喷嘴将被提供的该清洗液吸引规定量，在该吸引后，利用设置于所述第一清洗液喷嘴的清洗头吸引残留在所述反应容器的清洗液。