[发明专利]电解池和电解槽

权利要求书

1.一种电解池，所述电解池具备阴极室，该阴极室包含：

阴极、以及

与所述阴极对置地配置且具有基材和逆电流吸收体的逆电流吸收部件，

其中，

所述阴极与所述逆电流吸收体电连接，

设所述阴极室的下端的高度为0、设所述阴极室的上端的高度为h时，在对应于h/2以上h以下的高度的位置I存在的逆电流吸收体的面积S3与对应于所述位置I的所述基材的阴极对置面的面积S_A之比为0.20≦S3/S_A1.0。

2.如权利要求1所述的电解池，其中，所述电解池中，在对应于0以上且小于1/2h的高度的位置II存在的逆电流吸收体的面积S4与所述面积S3的关系为S4S3。

3.如权利要求1或2所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体包含氧化还原电位比所述阴极的催化剂元素低的元素。

4.如权利要求1或2所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体包含选自由钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、钯、钌和铂组成的组中的至少一种元素。

5.如权利要求1或2所述的电解池，其中，

所述逆电流吸收体为包含镍元素的多孔质体，

在将所述多孔质体供至粉末X射线衍射而得到的谱图中，衍射角2θ＝44.5°处的Ni金属的衍射线峰的半峰全宽为0.6°以下。

6.如权利要求1或2所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体为包含Ni或NiO的层。

7.如权利要求1或2所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体是将NiO还原而成的层。

8.如权利要求1或2所述的电解池，其中，所述阴极具有阴极基材和催化剂层，该阴极基材由Ni或Ni合金构成，或者由在Fe上镀覆Ni或Ni合金得到的材料构成；该催化剂层形成在该阴极基材上，含有催化剂金属。

9.如权利要求1或2所述的电解池，其中，

所述基材具有集电体、支撑该集电体的支撑体、隔离壁、以及折流板，

所述逆电流吸收部件进一步具有金属弹性体，

所述金属弹性体被配置在所述集电体和所述阴极之间，

所述支撑体被配置在所述集电体和所述隔离壁之间，

所述隔离壁、所述支撑体、所述集电体、所述金属弹性体以及所述阴极电连接。

10.如权利要求1或2所述的电解池，其中，

所述逆电流吸收体包含金属板或金属多孔板、以及在该金属板或金属多孔板表面的至少一部分形成的逆电流吸收层，

所述基材具有集电体、支撑该集电体的支撑体、以及隔离壁，

所述逆电流吸收部件进一步具有金属弹性体，

所述金属板或金属多孔板被配置在所述集电体和所述阴极之间、以及所述集电体和所述隔离壁之间的任一位置，

所述金属板或金属多孔板、所述隔离壁、所述支撑体、所述集电体、所述金属弹性体以及所述阴极电连接。

11.如权利要求10所述的电解池，其中，所述金属板或金属多孔板为Ni、Ni合金，或者为在表面具有Ni或Ni合金的包覆层的Fe、Fe合金或不锈钢材料。

12.如权利要求9所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体的至少一部分被配置在所述金属弹性体与所述集电体之间。

13.如权利要求9所述的电解池，其中，所述逆电流吸收体的至少一部分被配置在所述集电体与所述隔离壁之间。

14.如权利要求1或2所述的电解池，其中，

所述阴极室具有隔离壁和支撑所述阴极的阴极支撑体作为所述基材，

所述阴极支撑体被配置在所述阴极和所述隔离壁之间，

所述隔离壁、所述阴极支撑体以及所述阴极电连接。