[发明专利]质量分析器

权利要求书

1.一种质量分析器，包括：

电离器，用于从样本产生离子；

滤质器，其具有累积器部，所述累积器部与过滤部集成在所述滤质器中，并且在从所述滤质器喷射过滤离子之前对所述过滤离子进行累积；以及

离子检测器，其被配置为检测从所述滤质器喷射的离子，

其中，具有所述累积器部的所述滤质器和所述离子检测器通过固定而集成在单个玻璃底盘上，使得所述过滤部、所述累积器部和所述离子检测器在所述单个玻璃底盘上对准。

2.根据权利要求1所述的质量分析器，其中，所述滤质器包括四极阵列，并且所述累积器部包括离子阱阵列。

3.根据权利要求2所述的质量分析器，其中，所述离子阱阵列包括圆柱形离子阱阵列。

4.根据权利要求3所述的质量分析器，其中，所述圆柱形离子阱阵列包括顶部端盖板、环形电极板和底部端盖板。

5.根据权利要求2所述的质量分析器，其中，所述四极阵列的杆用作所述离子阱阵列的环形电极。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的质量分析器，还包括被配置为以两个模式控制所述质量分析器的模块，其中，所述两个模式中的第一模式是在从所述滤质器喷射所述过滤离子之前不累积的情况下通过所述累积器部喷射所述过滤离子，以及所述两个模式中的第二模式是在从所述滤质器喷射所述过滤离子之前将所述过滤离子累积在所述累积器部中。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的质量分析器，还包括被配置为向所述累积器部提供与提供给所述滤质器的电场或磁场相同的电场或磁场的模块。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的质量分析器，还包括被配置为向所述累积器部提供与提供给所述滤质器的电场或磁场不同的电场或磁场的模块。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的质量分析器，其中，所述离子检测器包括法拉第检测器。

10.一种质量分析系统，包括：

根据权利要求1至9中任一项所述的质量分析器；以及

被配置为使用来自所述质量分析器的输出的模块。

11.根据权利要求10所述的质量分析系统，其中，所述模块包括输出单元，所述输出单元被配置为输出与所述质量分析器所检测的样本有关的信息。

12.一种质量分析方法，包括对质量分析器进行控制，所述质量分析器包括：电离器，用于从样本产生离子；滤质器，其具有累积器部，所述累积器部与过滤部集成在所述滤质器中；离子检测器，用于检测从所述滤质器喷射的离子；以及控制器，其被配置为控制要提供给所述过滤部和所述累积器部的电场或磁场，其中，具有所述累积器部的所述滤质器和所述离子检测器通过固定而集成在单个玻璃底盘上，使得所述过滤部、所述累积器部和所述离子检测器在所述单个玻璃底盘上对准，

其中，对所述质量分析器进行控制包括：

在从所述滤质器喷射过滤离子之前将所述过滤离子累积在所述累积器部中。

13.根据权利要求12所述的质量分析方法，其中，对所述质量分析器进行控制还包括：

使用所述控制器，在从所述滤质器喷射所述过滤离子之前不累积的情况下，通过所述累积器部喷射所述过滤离子。

14.根据权利要求12或13所述的质量分析方法，其中，对所述质量分析器进行控制还包括：

使用所述控制器，向所述累积器部提供与提供给所述滤质器的电场或磁场相同的电场或磁场。

15.根据权利要求12或13所述的质量分析方法，其中，对所述质量分析器进行控制还包括：

使用所述控制器，向所述累积器部提供与提供给所述滤质器的电场或磁场不同的电场或磁场。