[发明专利]光电子半导体芯片在审

专利信息
申请号: 201880013936.4 申请日: 2018-02-22
公开(公告)号: CN110337730A 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 安德烈亚斯·鲁道夫;马库斯·布勒尔;沃尔夫冈·施密德;约翰内斯·鲍尔;马丁·鲁道夫·贝林格 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;张春水
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 波长 量子阱层 光电子半导体芯片 多量子阱结构 人眼 源层 红外光谱 发射 辐射 不可见 交替的 阻挡层
【权利要求书】:

1.一种光电子半导体芯片(10),所述光电子半导体芯片具有:

-p型半导体区域(4),

-n型半导体区域(9),

-在所述p型半导体区域(4)与所述n型半导体区域(9)之间设置的有源层(6),所述有源层构成为多量子阱结构(6A,6B)并且具有交替的量子阱层(6A)和阻挡层(6B),其中所述量子阱层(6A)适合于发射在第一波长范围中的第一辐射(21),以及

-至少一个另外的量子阱层(7A),所述至少一个另外的量子阱层设置在所述多量子阱结构(6A、6B)之外,并且适合于发射在第二波长范围中的第二辐射(22),其中

-所述第一波长范围处于对于人眼不可见的红外光谱范围中,和

-所述第二波长范围包括如下波长,该波长至少部分对于人眼而言是可见的。

2.根据权利要求1所述的光电子半导体芯片,

其中所述第二辐射(22)在750nm和850nm之间的波长处具有强度最大值。

3.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述第一辐射(21)在850nm和1000nm之间的波长处具有强度最大值。

4.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)具有电子带隙EQW2,所述电子带隙大于所述多量子阱结构的量子阱层(6A)的电子带隙EQW1,并且其中适用EQW2-EQW1≥0.1eV。

5.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述多量子阱结构的量子阱层(6A)和所述至少一个另外的量子阱层(7A)分别具有InxAlyGa1-x-yAs或InxAlyGa1-x-yP,其中0≤x≤l,0≤y≤1和x+y≤1。

6.根据权利要求5所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)的铝含量y大于所述多量子阱结构(6A,6B)的量子阱层(6A)的铝含量y。

7.根据权利要求5或6所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)的铟含量x小于所述多量子阱结构(6A)的量子阱层的铟含量x。

8.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)与所述多量子阱结构(6A,6B)的量子阱层(6A)相比具有更小的厚度。

9.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)设置在所述多量子阱结构(6A,6B)的朝向所述n型半导体区域(9)的侧上。

10.根据权利要求9所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)与所述多量子阱结构(6A,6B)直接邻接。

11.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体芯片,

其中所述至少一个另外的量子阱层(7A)设置在所述多量子阱结构的朝向所述p型半导体区域(4)的侧上。

12.根据权利要求11所述的光电子半导体芯片,

其中所述多量子阱结构(6A,6B)设置在p侧的限制层(5)与n侧的限制层(8)之间,和其中所述p侧的限制层(5)设置在所述多量子阱结构(6A,6B)与所述至少一个另外的量子阱层(7A)之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧司朗光电半导体有限公司,未经欧司朗光电半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880013936.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top