[发明专利]磁记录介质、含氟醚化合物及磁记录介质用润滑剂

说明书

本发明的含氟醚化合物由下述通式(1)表示。(在通式(1)中，X表示三价原子或三价原子团，A表示包含至少1个极性基的连接基，B表示具有全氟聚醚链的连接基，D表示极性基或末端具有极性基的取代基。)

技术领域

本发明涉及磁记录介质、含氟醚化合物以及磁记录介质用润滑剂。

本申请基于2017年3月2日在日本申请的特愿2017-039816号来主张优先权，将其内容援用到本文中。

背景技术

为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。

以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅仅通过在记录层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。

作为形成磁记录介质的润滑层时所使用的润滑剂，例如，提出了含有在具有包含CF₂的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-248463号公报

专利文献2：日本特开2012-184339号公报

专利文献3：国际公开第2013/054393号

专利文献4：国际公开第2010/038754号

专利文献5：日本专利第3811880号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在磁记录再生装置中，要求使磁头的上浮量更加小。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。

然而，如果使润滑层的厚度薄，则润滑层易于形成间隙。其结果，被覆保护层表面的润滑层的被覆率降低。如果使污染物质生成的环境物质从被覆率低的润滑层的间隙向润滑层的下层侵入，则环境物质生成离子性杂质等污染磁记录介质的污染物质。

本发明是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以适合作为可以形成即使厚度薄，也可以以高被覆率被覆保护层表面的润滑层的磁记录介质用润滑剂的材料而使用的含氟醚化合物。

此外，本发明的课题是提供使用了本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及使用了该润滑剂的磁记录介质。

用于解决课题的方法

本发明人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。

其结果发现，只要是在配置在中央的三价原子或三价原子团X上连接了3个含氟醚基，并且3个含氟醚基从三价原子或三价原子团X侧起依次配置了包含至少1个极性基的连接基A、具有全氟聚醚链的连接基B、和极性基或末端具有极性基的取代基D的含氟醚化合物即可。

对于上述含氟醚化合物，在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在磁记录介质的保护层上的情况下，从三价原子或三价原子团X沿三个方向延伸的具有全氟聚醚链的连接基B被覆保护层表面，并且使磁头与保护层的摩擦力降低。此外，连接基A和取代基D所具有的极性基在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在磁记录介质的保护层上的情况下，使润滑剂与保护层密合。

对于这样的含氟醚化合物，如果使用包含该含氟醚化合物的润滑剂在保护层上形成润滑层，则配置在中央的三价原子或三价原子团X通过配置在三价原子或三价原子团X附近的3个连接基A与保护层的结合，而密合在保护层上。此外，与三价原子或三价原子团X连接的3个含氟醚基的末端分别通过取代基D与保护层的结合，而密合在保护层上。