[发明专利]外延晶圆背面检查方法及其检查装置、外延成长装置的起模针管理方法及外延晶圆制造方法有效

专利信息
申请号: 201880014834.4 申请日: 2018-02-22
公开(公告)号: CN110418958B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 松尾圭子;和田直之;江头雅彦 申请(专利权)人: 胜高股份有限公司
主分类号: G01N21/956 分类号: G01N21/956;H01L21/66
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张泽洲;陈浩然
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 外延 背面 检查 方法 及其 装置 成长 针管 制造
【权利要求书】:

1.一种外延晶圆背面检查方法,其特征在于,使用具有具备相对于外延晶圆的背面垂直地设置并且光源是蓝色LED及红色LED中的任一个的环形光纤照明及拍摄部的光学系统和与所述背面平行地扫描所述光学系统的扫描部的外延晶圆背面检查装置,所述外延晶圆背面检查方法包括:

拍摄工序,一边以所述扫描部扫描所述光学系统,一边连续地拍摄所述背面的部分图像;

获取工序,从所述部分图像中获取所述背面的整体图像;

检测工序,从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷;以及

数值化处理工序,对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积,

在所述检测工序中,抽取自所述外延晶圆的背面的中心远离指定距离的位置上的点状的标准缺陷,并将该标准缺陷的位置设为第1标准位置,从所述中心以每等角旋转所述第1标准位置而抽取多个第2标准位置附近的缺陷,将所述第1标准位置及所述多个第2标准位置附近的点状缺陷所组成的组作为所述针印缺陷进行检测。

2.根据权利要求1所述的外延晶圆背面检查方法,其中,所述数值化处理工序包括:

第1工序,获取所述整体图像中的所述针印缺陷的各个点状缺陷的各像素的亮度值;

第2工序,根据指定的亮度阈值对所述各像素的亮度值进行二值化处理;以及

第3工序,根据所述二值化处理后的各像素,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积。

3.根据权利要求1或2所述的外延晶圆背面检查方法,其还包括:判定工序,在所述数值化处理工序后,根据所述各个点状缺陷的缺陷面积与预定的面积阈值的对比,判定所述各个点状缺陷的良否。

4.一种外延晶圆背面检查装置,其特征在于,具有:

光学系统,具备相对于外延晶圆的背面垂直地设置并且光源是蓝色LED及红色LED中的任一个的环形光纤照明及拍摄部;

扫描部,与所述背面平行地扫描所述光学系统;

解析部,解析由所述光学系统所获取的外延晶圆背面的图像;以及

控制部,控制所述光学系统、所述扫描部及所述解析部,

所述外延晶圆背面检查装置中,

所述光学系统经由所述控制部一边以所述扫描部进行扫描,一边连续地拍摄所述背面的部分图像,

所述解析部经由所述控制部,从所述部分图像获取所述背面的整体图像,并从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷,对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积,

当所述解析部检测出所述针印缺陷时,抽取自所述外延晶圆背面的中心远离指定距离的位置上的点状的标准缺陷,并将该标准缺陷的位置设为第1标准位置,从所述中心以每等角旋转所述第1标准位置而抽取多个第2标准位置附近的缺陷,将所述第1标准位置及所述多个第2标准位置附近的点状缺陷所组成的组作为所述针印缺陷进行检测。

5.根据权利要求4所述的外延晶圆背面检查装置,其中,

当进行所述数值化处理时,所述解析部经由所述控制部获取所述整体图像中的所述针印缺陷的各个点状缺陷的各像素的亮度值,根据指定的亮度阈值对所述各像素的亮度值进行二值化处理,根据所述二值化处理后的各像素,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积。

6.根据权利要求4或5所述的外延晶圆背面检查装置,其中,

所述解析部经由所述控制部根据所述各个点状缺陷的缺陷面积与预定的面积阈值的对比,进一步判定所述各个点状缺陷的良否。

7.一种外延成长装置的起模针管理方法,其特征在于,根据由权利要求1至3中任一项所述的外延晶圆背面的检查方法所算出的所述各个点状缺陷的缺陷面积,判定外延成长装置的起模针的更换时期。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜高股份有限公司,未经胜高股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880014834.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top