[发明专利]积层造形用铜合金粉末、积层造形物的制造方法及积层造形物有效
申请号: | 201880015055.6 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN110366459B | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 佐藤贤次;涩谷义孝 | 申请(专利权)人: | JX金属株式会社 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;C22C9/00;B22F1/05;B22F10/28;B33Y10/00;B33Y70/00;B33Y80/00;C22C1/04 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;唐瑞庭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 造形 铜合金 粉末 制造 方法 | ||
1.一种积层造形用铜合金粉末,其含有对于铜的在液相以下的温度下最大固溶量未达0.2at%的添加元素,上述添加元素为选自由Ba、Bi、Ca、Gd、Eu、Ho、La、Lu、Mo、Nd、Os、Pb、Pm、Pu、Re、Ru、S、Se、Sr、Sm、Tb、Tc、Te、Th、Tm、U、V、Y、Yb所组成的群中的至少一种,剩余部分为铜及不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的积层造形用铜合金粉末,其中,上述添加元素为选自由Nd、Y、Mo、Os或Ru所组成的群中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的积层造形用铜合金粉末,其含有0.1~12.0at%的上述添加元素。
4.根据权利要求1或2所述的积层造形用铜合金粉末,其平均粒径D50为20~100μm。
5.根据权利要求1或2所述的积层造形用铜合金粉末,其氧浓度为1000wtppm以下。
6.一种积层造形物的制造方法,其为使用权利要求1至5中任一项所述的积层造形用铜合金粉末来制造积层造形物的方法,其重复进行多次下述步骤而制造积层造形物;所述步骤为:
在造形用台铺满上述铜合金粉末而形成薄层;
对上述薄层的必须造形部分照射电子束,而熔融上述铜合金粉末,其后通过自然冷却使之凝固。
7.一种积层造形物的制造方法,其为使用权利要求1至5中任一项所述的积层造形用铜合金粉末来制造积层造形物的方法,其重复进行多次下述步骤而制造积层造形物;所述步骤为:
在造形用台铺满上述铜合金粉末而形成薄层;及
对上述薄层的必须造形部分照射激光光束,而熔融上述铜合金粉末,其后通过自然冷却使之凝固。
8.一种积层造形物,其由铜合金构成,且
上述铜合金含有对于铜的在液相以下的温度下最大固溶量未达0.2at%的添加元素,上述添加元素为选自由Ba、Bi、Ca、Gd、Eu、Ho、La、Lu、Mo、Nd、Os、Pb、Pm、Pu、Re、Ru、S、Se、Sr、Sm、Tb、Tc、Te、Th、Tm、U、V、Y、Yb所组成的群中的至少一种,剩余部分为铜及不可避免的杂质,相对密度相对于理论密度为98%以上,导电率为50%IACS以上,且0.2%耐力为700MPa以上。
9.根据权利要求8所述的积层造形物,其中,上述添加元素为选自由Nd、Y、Mo、Os或Ru所组成的群中的至少一种。
10.根据权利要求8或9所述的积层造形物,其含有0.1~12.0at%的上述添加元素。
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