[发明专利]用于形成用于激光加工的辐射的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在激光加工过程中进行光束形成的方法，其中在激光器装置（20）中能够将激光光束（22）聚焦到加工/成像平面（29）上并且所述激光光束（22）能够借助至少一个光束形成器（26，30）在其强度分布方面被适配，其特征在于，

为了避免在所述加工/成像平面（29）中的均匀性误差，所述激光光束（22）借助至少一个分束器（23）被划分成至少两个子光束或单光束（24，25，35）并且所述子光束或单光束不同地受影响或每个子光束或单光束由具有不同波长的激光源（21）形成，所述子光束或单光束在其聚集并聚焦到所述加工/成像平面（29）上之后形成具有强度轮廓（28.1）的输出光束（28），其中所述强度轮廓（28.1）的相邻的强度最大值在至少一个或多个光特性方面不同，以便排除干涉形成，

所述子光束或单光束的强度轮廓（24.1，25.1，37.1，37.2，37.3，37.4）在所述加工/成像平面（29）中在构成作为规则的图案M的所述输出光束（28）的情况下被聚集，所述规则的图案具有反复的图案区域（MFA，MFB，MFC，MFD），其中直接相邻的图案区域（MFA，MFB，MFC，MFD）分别被分配给不同类型的子光束或单光束，其中所述不同类型的子光束或单光束在至少一个光特性方面不同。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述子光束或单光束（24，25，35）借助光束形成器（26，30，37）和/或延迟单元（36）和/或波长操纵器（38）在其相位和/或其强度轮廓（24.1，25.1，37.1，37.2，37.3，37.4）和/或其波长方面不同地受影响。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光光束（22）被划分成至少两个被不同地偏振的子光束并且所述子光束分别借助光束形成器（26，30）在其强度轮廓（24.1，25.1）方面被改变并且在聚集所述被不同地偏振的子光束之后，两个子光束的强度轮廓（24.1，25.1）在所述加工/成像平面（29）中叠加成额定光束轮廓（33），其中所述强度轮廓（24.1，25.1）的相邻的强度最大值分别具有不同的偏振。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述图案区域（MFA，MFB，MFC，MFD）为棋盘图案或蜂窝图案或三角形图案或菱形图案的形式。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，借助所述光束形成器（26，30，37）以短的时间间距连续地利用至少一个相位掩模和/或幅度掩模修改所述子光束（24，25，37）。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，根据额定光束轮廓（33），为激光加工预先给定不同的相位掩模和/或幅度掩模。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述子光束分别本身分开地或共同地利用所述相位掩模和/或幅度掩模来修改。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，为了光束形成，使用衍射漫射器，所述衍射漫射器被实施为空间光调制器。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，使用脉冲式或非脉冲式相干光源。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，在使用脉冲式激光器的情况下所述激光光束（22）在其划分成至少两个针对每个子光束（35.1，35.2，35.3，35.4）具有不同的强度轮廓的子光束或单光束（24，25，35）之后借助延迟单元（36）针对每个子光束或单光束（24，25，35）不同地被时间延迟并且在所述子光束或单光束聚集并聚焦到所述加工/成像平面（29）上之后形成具有强度轮廓（28.1）的输出光束（28），而至少在时间上在所述加工/成像平面（29）中不叠加，其中为了针对每个子光束（35.1，35.2，35.3，35.4）产生不同的强度轮廓，所述光束形成器（37）与所述分束器（23）组合或布置在所述延迟单元（36）之后在光束聚集装置（27）之前。