[发明专利]图案形成方法和加工基板、光学部件和石英模具复制品的制造方法以及用于压印预处理的涂覆材料及其与压印抗蚀剂的组合在审
申请号: | 201880016546.2 | 申请日: | 2018-03-02 |
公开(公告)号: | CN110392919A | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 千叶启子;石田晋吾;安藤敏明;伊藤俊树;B·T·斯塔霍维亚克;W·刘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;B29C59/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 刘强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固化性组合物 图案形成 模具 聚合性化合物 基板 压印 液滴 注料 固化 纳米压印技术 预处理 铺设 光学部件 加工基板 精度加工 区域固化 石英模具 涂覆材料 复制品 抗蚀剂 脱模 照射 分配 制造 | ||
1.图案形成方法,依次包括:
步骤(1),将由固化性组合物(A1)形成的层铺设在基板的表面上,该固化性组合物(A1)至少含有充当聚合性化合物的组分(a1);
步骤(2),将固化性组合物(A2)的液滴离散地逐滴分配至固化性组合物(A1)的层上以铺设液滴,该固化性组合物(A2)至少含有充当聚合性化合物的组分(a2);
步骤(3),将通过部分混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层夹在模具和基板之间;
步骤(4),用光从模具侧照射通过混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层以一次地使该层固化;和
步骤(5),在固化之后从由固化性组合物形成的层脱模模具,
其中通过每注料区域固化性组合物(A2)的体积(Vr)除以固化性组合物(A1)的体积(Vc)获得的值Vr/Vc为4或更大且15或更小。
2.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中除了充当溶剂的组分(d1)的固化性组合物(A1)的表面张力比除了充当溶剂的组分(d2)的固化性组合物(A2)的表面张力大。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中固化性组合物(A1)中光聚合引发剂(b1)的含量相对于除了充当溶剂的组分(d1)的固化性组合物(A1)的所有组分的总重量为小于0.1重量%。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法,其中值Vr/Vc为6或更大且10或更小。
5.加工基板的制造方法,包括权利要求1至4中任一项的图案形成方法。
6.光学部件的制造方法,包括权利要求1至4中任一项的图案形成方法。
7.石英模具复制品的制造方法,包括权利要求1至4中任一项的图案形成方法。
8.用于压印预处理的涂覆材料,包含固化性组合物(A1),该用于压印预处理的涂覆材料配置为通过在基板上形成充当压印预处理涂层的液体膜和将由固化性组合物(A2)形成的压印抗蚀剂的液滴分配至成为压印预处理涂层的液体膜来加速在基板表面方向上液滴组分的扩展,其中:
固化性组合物(A1)至少含有充当聚合性化合物的组分(a1);和
基板的顶部涂覆有该用于压印预处理的涂覆材料,使得通过每注料区域液滴的体积(Vr)除以用于压印预处理的涂层体积(Vc)获得的值Vr/Vc可为4或更大且15或更小。
9.组合,包含:
权利要求8的用于压印预处理的涂覆材料;和
用于逐滴分配至涂覆有该用于压印预处理的涂覆材料的基板上的压印抗蚀剂。
10.根据权利要求9所述的组合,其中用于压印预处理的涂覆材料除了溶剂的组分的组合物的表面张力比压印抗蚀剂除了溶剂的组分的组合物的表面张力大。
11.压印抗蚀剂,其使用在权利要求9或10的组合中。
12.预处理方法,其用于通过在基板上布置固化性组合物而进行压印,该方法包括用权利要求8的用于压印预处理的涂覆材料涂覆基板的顶部。
13.图案形成方法,其用于在基板上形成图案,该方法包括将压印抗蚀剂的液滴离散地逐滴分配至涂覆有权利要求8的用于压印预处理的涂覆材料的基板上的步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造