[发明专利]用于制造具有纹理的晶圆的方法和粗糙化喷雾处理装置在审
申请号: | 201880017171.1 | 申请日: | 2018-03-07 |
公开(公告)号: | CN110383495A | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | M.尼特哈默;I.森;M.肖赫;S.基施鲍姆 | 申请(专利权)人: | 吉布尔·施密德有限责任公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18;H01L21/67;H01L21/02;B05B1/20;B24C1/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵伯俊;陈浩然 |
地址: | 德国弗罗*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆 纹理 硅晶圆 坯件 粗糙化 喷雾 制造 经线 喷雾处理装置 水平输送系统 太阳能电池 连续过程 磨蚀粒子 悬浮液 顶侧 锯切 施加 应用 | ||
1. 用于制造具有纹理的硅晶圆的方法,其中,
- 提供各晶圆坯件(34),并且
- 在连续过程中在使用水平输送系统(22)的情况下使得所述晶圆坯件经过多个相继的处理过程,
- 其中,在所述处理过程中的一个处理过程中使得所述晶圆坯件经过粗糙化喷雾过程,在所述粗糙化喷雾过程中,为晶圆坯件的顶侧和/或底侧施加包含水基磨蚀粒子悬浮液的喷雾(35)。
2. 根据权利要求1所述的方法,其特征还在于,
- 将刚玉粒子和/或金刚石粒子和/或碳酸硅粒子用作所述磨蚀粒子悬浮液中的磨蚀粒子,和/或
- 将具有在5 µm与150 µm之间、尤其是在40 µm与80 µm之间的平均粒度的刚玉粒子和/或金刚石粒子和/或碳酸硅粒子用作所述磨蚀粒子悬浮液中的磨蚀粒子,和/或
- 使用具有在10 %(重量)与60 %(重量)之间、尤其是在25 %(重量)与35 %(重量)之间的粒子浓度的磨蚀粒子悬浮液中的磨蚀粒子。
3.根据权利要求1或者2所述的方法,其特征还在于,在所述磨蚀粒子悬浮液中使用提高黏度的添加剂,所述添加剂含有由聚乙二醇、羟乙基纤维素、羟甲基纤维素与黄原胶构成的组中的物质中的一个或者多个物质。
4. 根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征还在于,为所述喷雾设置在0.5bar与3 bar之间、尤其是在0.8 bar与1.2 bar之间的喷射压力。
5.用于在连续过程中对经线锯锯切的硅晶圆进行粗糙化喷雾处理的装置,其具有:
- 水平输送系统(22),所述硅晶圆能够借由其底侧铺放到所述水平输送系统上,
- 喷射流体储槽(30),其用于储存用作粗糙化喷射流体的水基磨蚀粒子悬浮液,和
- 喷嘴单元(36),其具有一个或者多个喷嘴和/或喷管(36a),所述喷嘴和/或喷管用于分别产生存储在所述喷射流体储槽中的磨蚀粒子悬浮液的朝向硅晶圆的顶侧和/或底侧的粗糙化喷雾(35)。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征还在于,所述输送系统在与喷雾入射位置(37)对置的位置上具有用于被连续式输送的硅晶圆的支撑增强部(38)。
7.根据权利要求5或者6所述的装置,其特征还在于,至少一个喷嘴(43)是喷射角在40°与60°之间、尤其是在55°与65°之间的扁平射流喷嘴。
8.根据权利要求6或者7所述的装置,其特征还在于,所述喷嘴单元具有一个或者多个横向于所述晶圆输送方向伸展的喷管(36a),其中,至少一个喷管具有多个沿所述喷管的纵向相继布置的喷嘴。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的装置,其特征还在于用于清洁所述粗糙化喷射流体的流体旋风器(47、47‘),其中,所述流体旋风器的下游与所述喷射流体储槽连接,并且所述流体旋风器的上游与所述喷嘴单元的沿晶圆输送方向位于最后的喷嘴/喷管(50)连接或者与位于所述喷嘴单元下游的冲洗喷嘴模块(55)连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的