[发明专利]使用电润湿元件清洁表面的装置及其控制方法有效
申请号: | 201880017508.9 | 申请日: | 2018-02-28 |
公开(公告)号: | CN110392921B | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 金元洙;权圣斗;池石万;洪三悦 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 达小丽;夏凯 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 润湿 元件 清洁 表面 装置 及其 控制 方法 | ||
1.一种用于清洁物体的表面的装置,包括:
衬底,所述衬底被配置成设置在所述物体的表面上;
多个电极,所述多个电极被设置在所述衬底上;
电介质层,所述电介质层被设置在所述衬底上以覆盖所述电极;以及
控制装置,所述控制装置被配置为向所述电极供应交流AC电力,
其中,向所述电极供应所述AC电力包括:在第一时间段期间向所述电极供应具有预定第一频率和预定第一电压的第一AC电力,以通过在所述电极处生成的静电力的周期性变化来使所述物体的表面上的液滴振动,
其中,所述第一频率被设置为所述液滴的谐振频率,
其中,所述控制装置还被配置为:
在所述第一时间段期间提供所述第一AC电力之后的第二时间段期间,将具有比所述第一电压大的第二电压的第二AC电力供应到所述电极,
将所述第二电压降低至比所述第二电压小并且比所述第一电压大的第三电压,
将所述第三电压增加到所述第二电压,以及
将所述第三电压重复增加到所述第二电压并且将所述第二电压减小到所述第三电压,以及
其中,所述第一时间段和所述第二时间段被设置为8:2的比率。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述控制装置还被配置为在将所述第一AC电力供应到所述电极之前,在向所述电极提供初步AC电力时检测所述液滴的谐振频率。
3.根据权利要求2所述的装置,其中,由所述控制装置检测所述谐振频率还包括:
在提供所述初步AC电力时顺序地扫描频率的预定范围;
感测所述液滴的谐振;以及
将在其处发生所述谐振的频率设置为所述第一频率。
4.根据权利要求3所述的装置,其中,在提供所述初步AC电力时顺序地扫描频率的预定范围包括:从预定频率开始逐渐地增加所述初步AC电力的频率直到发生所述液滴的谐振。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,所述控制装置还被配置为扫描10Hz和150Hz之间的频率。
6.根据权利要求3所述的装置,还包括:图像传感器,其中,为了感测所述液滴的谐振,所述控制装置还被配置为:
使用所述图像传感器来获取所述液滴的图像;以及
分析所述获取的图像,以检测所述液滴的振动的突然增强。
7.根据权利要求1所述的装置,其中,所述控制装置还被配置为将谐振频率的最高频率设置为所述AC电力的第一频率。
8.根据权利要求1所述的装置,其中,所述第一电压是在50V和150V之间的范围中。
9.根据权利要求1所述的装置,其中,所述第二电压在150V和200V之间的范围中。
10.根据权利要求1所述的装置,其中,所述控制装置还被配置为通过感测由所述液滴在所述电极处生成的阻抗的变化来检测在所述物体的表面上布置的液滴。
11.根据权利要求1所述的装置,其中,所述控制装置还被配置为改变所述物体的倾斜度以促进所述液滴的移动。
12.根据权利要求1所述的装置,其中,所述衬底、所述电极和所述电介质层由透明材料形成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造