[发明专利]宽带全向聚合物抗反射涂层

权利要求书

1.一种产生抗反射涂层的方法，所述方法包括：

经由沉积工艺在聚合物基底的表面上形成涂层，在所述基底的表面上形成涂层，使得：

在涂层材料汽化期间，涂层材料汽化以形成涂层材料的链片段，所述汽化的链片随后扩散到所述聚合物基底的表面中、随着所述链片段的层施加到所述基底的表面上而深入到所述基底的表面一定深度，扩散到所述基底中的链片段随后再聚合以与所述基底的聚合物链互锁；并且

其中，深入到所述聚合物基底的表面的所述深度至少为5纳米至高达1微米，并且所述表面为所述聚合物基底的外表面，以致于所述深度从所述外表面延伸至所述聚合物之内的深度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层材料包括含氟聚合物。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂层材料包括聚合物材料。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是塑料、丙烯酸或聚碳酸酯。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是弯曲的。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是弯曲透镜。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是菲涅耳透镜。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积工艺是掠射角沉积工艺。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述掠射角沉积工艺还包括将所述基底保持在低于所述基底的玻璃化转变温度的温度。

10.根据权利要求1所述的方法，其中通过所述涂层材料的汽化通过所述涂层材料的蒸发而发生。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底是小透镜阵列。

12.一种光学部件，包括：

基底，被配置用作光学元件，所述基底具有形成在所述基底的表面的至少一部分上的涂层，所述涂层通过根据权利要求1的方法形成。