[发明专利]功能性膜及器件

权利要求书

1.功能性膜，其中，所述功能性膜具有工艺膜、在所述工艺膜上直接设置的树脂涂布层和在所述树脂涂布层上直接或隔着其它的层设置的阻气层，

所述树脂涂布层由含有能量固化性树脂和无机填料的固化性组合物的固化物构成，

所述工艺膜在表面不具有易粘接层或剥离层，且以可剥离除去的状态设置，

所述功能性膜是以下(i) ~(iv)的任一种层构成的功能性膜，

(i) 工艺膜/树脂涂布层/阻气层

(ii) 工艺膜/树脂涂布层/阻气层/粘接剂层

(iii) 工艺膜/树脂涂布层/阻气层/粘接剂层/剥离膜

(iv) 工艺膜/树脂涂布层/阻气层/底漆层/粘接剂层/剥离膜。

2.根据权利要求1所述的功能性膜，其中，所述无机填料是其表面由有机化合物修饰的无机填料。

3.根据权利要求2所述的功能性膜，其中，用于所述无机填料的表面的修饰的有机化合物包含含有反应性不饱和键的基团。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述工艺膜的树脂成分为聚酯系树脂。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述工艺膜的厚度为10~300μm。

6.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述树脂涂布层的厚度为0.1~10μm。

7.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述树脂涂布层的与工艺膜接触的一侧的相反侧的面的粗糙度曲线的截面最大高度(Rt)为1~200nm。

8.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述阻气层含有选自以下的至少一种：硅氧化物、硅氮化物、硅氟化物、硅碳化物、金属氧化物、金属氮化物、金属氟化物、金属碳化物和含有构成这些化合物的元素的复合化合物。

9.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述阻气层是将可通过接受改性处理而变化为含有无机化合物的层的层的表面改性而得到。

10.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述阻气层的厚度为20~3000nm。

11.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，所述功能性膜还具有粘接剂层，所述粘接剂层在所述阻气层上直接或隔着其它的层设置。

12.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其中，依据JIS K5600-5，以直径6mm进行芯轴弯曲试验后，在温度为40℃、相对湿度为90%的条件下的水蒸气透过率低于0.2g·m^-2·天^-1。

13.根据权利要求1~3中任一项所述的功能性膜，其用在光学器件中。

14.器件，其中，所述器件是将根据权利要求1~13中任一项所述的功能性膜贴附在对象物上后，剥离除去工艺膜而成。