[发明专利]共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物的制造方法

权利要求书

1.共轭二烯系聚合物的制造方法，其具有：

在烃溶剂中，向包含共轭二烯化合物的单体中添加聚合引发剂，得到聚合溶液的工序1，以及

在所述聚合溶液中，进一步一次或分两次以上添加所述聚合引发剂，得到具有活性末端的聚合物的工序2，

在所述工序1和/或所述工序2中，添加具有能够与所述共轭二烯化合物共聚的官能团的改性剂。

2.根据权利要求1所述的共轭二烯系聚合物的制造方法，其还具有：

使所述具有活性末端的聚合物与具有能够与所述活性末端反应的官能团的改性剂发生反应，在所述聚合物的末端引入基于所述改性剂的单元的工序3。

3.共轭二烯系聚合物的制造方法，其具有：

在烃溶剂中，向包含共轭二烯化合物的单体中添加聚合引发剂，得到聚合溶液的工序1，

在所述聚合溶液中，进一步一次或分两次以上添加所述聚合引发剂，得到具有活性末端的聚合物的工序2，以及

使所述具有活性末端的聚合物与具有能够与所述活性末端反应的官能团的改性剂发生反应，从而在所述聚合物的末端引入基于所述改性剂的单元的工序3。

4.共轭二烯系聚合物，其至少具有通过凝胶渗透色谱法测定的峰位分子量超过80万的峰、峰位分子量处于10万~80万的范围的峰和峰位分子量小于10万的峰，

所述共轭二烯系聚合物具有源于选自具有下述式(6)所示结构的化合物、具有下述式(7)所示结构的化合物和具有下述式(8)所示结构的化合物中的至少1种改性剂的单体单元，

[化学式1]

式(6)中，X¹、X²和X³各自独立地表示烃基、烃氧基、卤素原子或能够与所述共轭二烯系聚合物的活性末端反应的官能团；R⁶¹和R⁶²各自独立地表示氢原子和烃基，存在多个R⁶¹和R⁶²时，彼此可以相同或不同；A¹表示具有选自氧原子、氮原子、磷原子、硫原子和硅原子中的至少一种原子的有机基团，任选具有环结构；X¹、X²或X³的一部分结构任选与A¹的一部分键合；a表示0~10的整数，

[化学式2]

式(7)中，R⁷¹表示氢原子或烃基；s表示0或1，即0~1的整数；R⁷²表示亚烃基；A²表示取代氨基、含氮杂环基或取代甲硅烷基，

[化学式3]

式(8)中，R⁸¹和R⁸²各自独立地表示任选具有取代基的烃基，或者表示R⁸¹的一部分与R⁸²的一部分键合而成的任选具有氮原子和/或氧原子的亚烃基；R⁸⁴表示任选具有取代基的烃基、或氢原子，或者形成R⁸¹和R⁸²中任一者的一部分与R⁸⁴的一部分键合而成的任选具有氮原子和/或氧原子的亚烃基；此外，R⁸³表示二价基团；n为0或1。

5.根据权利要求4所述的共轭二烯系聚合物，其中，所述峰位分子量为10万~80万的范围中的高度最大的峰的面积以总峰面积作为基准计为40~95%。

6.根据权利要求4或5所述的共轭二烯系聚合物，其中，所述峰位分子量小于10万的范围中的高度最大的峰的面积以总峰面积作为基准计为20%以下。