[发明专利]成像设备、聚焦控制方法以及聚焦判定方法

权利要求书

1.一种成像设备，包括：

成像元件，包括图像输出像素和相位差检测像素；以及

控制单元，被配置为基于在执行基于使用所述相位差检测像素在预定时段内获得的图像平面相位差信息的聚焦控制期间获得的聚焦状态信息，生成指示聚焦状态的变化是否是单调变化的聚焦状态变化信息，并且在聚焦状态变化信息指示聚焦状态的变化是单调变化的情况下，继续基于图像平面相位差信息的图像平面相位差聚焦控制。

2.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

在聚焦状态变化信息指示聚焦状态的变化不是单调变化的情况下，控制单元从图像平面相位差聚焦控制切换到基于除了图像平面相位差信息之外的信息的另一聚焦控制。

3.根据权利要求2所述的成像设备，其中，

所述另一聚焦控制包括基于使用图像输出像素获得的图像信息的对比度聚焦控制或者基于由与所述成像元件分开设置的距离测量信息生成元件获得的距离测量信息的距离测量信息聚焦控制。

4.根据权利要求2所述的成像设备，其中，

所述另一聚焦控制包括基于使用图像输出像素获得的图像信息的对比度聚焦控制，以及

控制单元在对比度聚焦控制结束之后执行图像平面相位差聚焦控制。

5.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

所述控制单元在所述预定时段之前判定从相位差检测像素的输出获得的具有视差的两个图像的相关性计算结果的可靠性，并且在判定相关性计算结果可靠的情况下生成聚焦状态变化信息。

6.根据权利要求5所述的成像设备，其中，

在判定相关性计算结果不可靠的情况下，所述控制单元执行全搜索操作。

7.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

所述聚焦状态信息包括聚焦透镜的实际透镜位置或由图像平面相位差信息指示的散焦量，以及

所述控制单元基于实际透镜位置的变化量或散焦量的变化量来判定聚焦状态的变化是否是单调变化。

8.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

聚焦状态信息包括聚焦透镜的实际透镜位置或由图像平面相位差信息指示的散焦量，以及

控制单元基于实际透镜位置的变化量的频率特性或者散焦量的变化量的频率特性，判定聚焦状态的变化是否是单调变化。

9.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

所述聚焦状态信息包括聚焦透镜的实际透镜位置或由图像平面相位差信息指示的散焦量，以及

所述控制单元基于实际透镜位置或散焦量来判定聚焦状态的变化是否是单调变化。

10.根据权利要求1所述的成像设备，其中，

所述聚焦状态信息包括可更换透镜中的聚焦透镜的实际透镜位置，所述实际透镜位置是通过与可更换透镜的通信获取的。

11.一种成像设备，包括：

成像元件，包括图像输出像素和图像平面相位差检测像素；以及

判定单元，被配置为基于在执行基于使用所述相位差检测像素在预定时段内获得的图像平面相位差信息的聚焦控制期间获得的聚焦状态信息，生成指示聚焦状态的变化是否是单调变化的聚焦状态变化信息，在聚焦状态变化信息指示聚焦状态的变化是单调变化的情况下，判定为聚焦透镜的焦点位置偏移大的状态，并且在聚焦状态变化信息指示聚焦状态的变化不是单调变化的情况下，判定为由图像输出像素成像的被摄体的对比度低的状态。

12.根据权利要求11所述的成像设备，其中，

所述聚焦状态信息包括聚焦透镜的实际透镜位置或由图像平面相位差信息指示的散焦量；以及

所述判定单元基于实际透镜位置的变化量或散焦量的变化量来判定聚焦状态的变化是否是单调变化。