[发明专利]具有防水防反射膜的镜片及其制造方法

权利要求书

1.一种具有防水防反射膜的镜片，其特征在于，

在玻璃镜片的表面上具有按照防反射膜、基膜和防水膜的顺序层压的防水防反射膜；

所述防反射膜具有选自SiO₂、MgF₂、ZrO₂、Al₂O₃、TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅和Nb₂O₅的单层或含有2种以上的材料的混合层组成的低折射率层和高折射率层交替层压的结构，最上层由所述低折射率层的SiO₂形成；

所述基膜由选自SiO₂、ZrO₂、Al₂O₃、TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅和Nb₂O₅的单层或含有2种以上的混合层形成，致密度为80％以上100％以下，膜厚为1nm以上200nm以下；

所述防水膜在所述基膜的表面上由含有全氟聚醚基团的有机化合物形成，膜厚为5nm以上50nm以下；

所述基膜的致密度在所述防反射膜的最上层的致密度以上。

2.根据权利要求1所述的具有防水防反射膜的镜片，其特征在于，所述基膜由SiO₂形成。

3.根据权利要求1所述的具有防水防反射膜的镜片，其特征在于，所述玻璃镜片的表面为非球面。

4.一种具有防水防反射膜的镜片的制造方法，其特征在于，具有以下工序：

在玻璃镜片的表面上，在基板加热温度为200℃以上350℃以下的第1成膜室中，在所述玻璃镜片的表面上以1层以上形成选自SiO₂、MgF₂、ZrO₂、Al₂O₃、TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅和Nb₂O₅的单层或含有2种以上的材料的混合层从而形成防反射膜的第1工序；

将形成有所述防反射膜的所述玻璃镜片设置在与所述第1成膜室不同的第2成膜室中，此时，在将基板加热温度设定在较所述第1工序中的基板加热温度低的温度、在250℃以下的第2成膜室中，在保持减压的状态下连续形成基膜和防水膜的第2工序；

在所述第2工序中，具有在所述防反射膜的的表面上用选自SiO₂、ZrO₂、Al₂O₃、TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅和Nb₂O₅的单层或含有2种以上的材料的混合层以使得致密度为80％以上100％以下、膜厚为1nm以上200nm以下的方式形成所述基膜、此时比所述防反射膜薄地形成所述基膜的工序；和

在所述基膜的表面上用含有全氟聚醚基团的有机化合物以使得膜厚为5nm以上50nm以下的方式形成所述防水膜的工序；

在基板加热温度为250℃以下的同一成膜室中，在保持减压的状态下形成所述基膜和所述防水膜。

5.根据权利要求4所述的具有防水防反射膜的镜片的制造方法，其特征在于，通过离子束辅助法或溅射法形成所述基膜。

6.根据权利要求4所述的具有防水防反射膜的镜片的制造方法，其特征在于，用SiO₂形成所述基膜。