[发明专利]共聚焦扫描仪、显微镜系统以及共聚焦显微镜有效

专利信息
申请号: 201880021124.4 申请日: 2018-03-28
公开(公告)号: CN110462483B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 山宫広之 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 李成必;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 聚焦 扫描仪 显微镜 系统 以及
【说明书】:

本发明提供共聚焦扫描仪、显微镜系统以及共聚焦显微镜。安装在显微镜的共聚焦扫描仪包括:线状光源,射出线状光;线状检测器,具有将入射的光按照每行进行检测的线状的检测部;以及移动机构,使线状光源与线状检测器相对于显微镜并进移动,所述线状光源与所述线状检测器分别配置在相对于所述显微镜的焦平面位于共轭的位置的成像面内的相互对应的位置关系上。

技术领域

本发明涉及共聚焦扫描仪、显微镜系统以及共聚焦显微镜。

背景技术

已知有线式扫描型的共聚焦显微镜。例如,在专利文献1中公开了一种扫描例子,将线状的照明光投影到观察对象上,通过线状的检测器检测来自观察对象的返回光,通过扫描镜将线状的照明光对观察对象进行扫描。

此外,在专利文献2中公开了另外的线式扫描型的共聚焦显微镜的例子。这个例子虽然与专利文献1公开的例子相同,将线状的照明光投影到观察对象上,并通过线状的检测器检测来自观察对象的返回光,但是其是相对于观察对象使光学系统整体向1个方向并进移动并进行扫描的例子。

此外,在专利文献3以及专利文献4中公开了在物镜与光分束装置以及成像透镜之间设置狭缝阵列,通过使该狭缝阵列往复运动而进行扫描的例子。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4905356号公报

专利文献2:日本专利第2660613号公报

专利文献3:日本特开2001-13445号公报

专利文献4:日本特开2003-247817号公报

但是,虽然在专利文献1中使用的扫描镜能够进行高速扫描,可是一般来说高额的较多,所以存在的缺点是导致系统高额。此外,在配置扫描镜的情况下,一般优选配置在物镜的瞳位置,但是物镜的瞳位置位于物镜的内部或安装位置附近,所以不适合配置扫描镜。因此,一般来说扫描镜需要通过中继透镜来转送物镜的瞳位置,所以存在的缺点是光学系统整体变大。

此外,按照在专利文献2中公开的技术,作为扫描方式需要将光学系统整体并进移动,所以难以安装到已有的手动的显微镜等上,因此缺点是需要特殊的显微镜。

此外,在专利文献3以及专利文献4中公开的技术中,在由显微镜扩大的成像面上配置狭缝,将通过该狭缝的光投影到显微镜的焦平面上,利用中继透镜系统由拍摄元件对返回的光中通过狭缝的光进行拍摄。在该显微镜中需要转送显微镜的成像面的像的中继透镜系统,所以缺点是光学系统变大。

发明内容

鉴于上述问题,本发明的一个实施方式提供通过简便的结构可以得到共聚焦显微镜图像的共聚焦扫描仪、显微镜系统以及共聚焦显微镜。

为了解决上述问题,本发明提供一种共聚焦扫描仪,是安装在显微镜上的共聚焦扫描仪,包括:线状光源,射出线状光;线状检测器,具有将入射的光按照每行进行检测的线状的检测部;以及移动机构,使所述线状光源与所述线状检测器在相对于所述线状光源的长边方向和所述线状检测器的长边方向垂直的方向上一体并进移动,所述线状光源与所述线状检测器分别配置在相对于所述显微镜的焦平面位于共轭的位置的成像面内的相互对应的位置关系上。

此外,本发明还提供一种共聚焦扫描仪,在上述共聚焦扫描仪中,所述线状光源与所述线状检测器被配置在所述显微镜具备的成像透镜与所述成像透镜的像面之间的分束光学系统分束,分别直接配置在所述成像透镜的成像面上。

此外,本发明还提供一种共聚焦扫描仪,在上述共聚焦扫描仪中,所述移动机构使所述线状光源与所述线状检测器在维持相互对应的所述位置关系的状态下在所述显微镜的成像面上并进移动。

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