[发明专利]含有含全氟聚醚基化合物的表面处理剂有效

专利信息
申请号: 201880021443.5 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN110461985B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 三桥尚志;能势雅聪 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C09K3/18 分类号: C09K3/18;C08G65/00;C08G65/337;C09D5/16;C09D171/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 含有 含全氟聚醚基 化合物 表面 处理
【权利要求书】:

1.一种表面处理剂,其特征在于:

含有式(1A)或式(1B)所示的含全氟聚醚基化合物,

(Rf-PFPE)α2-X-Rmα1 (1A)

(Rf-Rf1-PFPE1-Rf2)α2-X-Rmα1 (1B)

式中,

Rf在每次出现时分别独立地表示碳原子数1~16的全氟烷基;

PFPE在每次出现时分别独立地为下式所示的基团:

-(OC6F12)a-(OCsF10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-

其中,a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数,a、b、c、d、e和f之和至少为1,标注a、b、c、d、e或f且被括号所括的各重复单元的存在顺序在式中是任意的;

PFPE1与PFPE的意义相同;

Rf1在每次出现时分别独立地表示(O-Rf11)m2

Rf11为包含1个以上氢原子的不具有支链结构的氟亚烷基;

m2为0~4的整数,m2为2~4的整数时,(O-Rf11)m2可以包含2种以上的O-Rf11

Rf2在每次出现时分别独立地表示(O-Rf21)m3

Rf21为包含1个以上氢原子的不具有支链结构的氟亚烷基;

m3为0~4的整数,m3为2~4的整数时,(O-Rf21)m3可以包含2种以上的O-Rf21

X在每次出现时分别独立地表示单键、氧原子或2~10价有机基团;

α1在每次出现时分别独立地为1~9的整数;

α2在每次出现时分别独立地为1~9的整数;

Rm在每次出现时分别独立地为以下的式所示的基团:

M在每次出现时分别独立地为能够配位结合的金属原子;

R1在每次出现时分别独立地表示具有与X的结合键的单齿配位体;

R2在每次出现时分别独立地表示具有与X的结合键的多齿配位体;

R3在每次出现时分别独立地表示单齿配位体;

R4在每次出现时分别独立地表示多齿配位体;

k为0~2的整数;

l为0~2的整数;

m为0以上的整数;

n为1或2;

其中,k和l之和为1~4,l乘以R2的配齿数得到的值、n乘以R4的配齿数得到的值、k和m之和为M的配位数。

2.如权利要求1所述的表面处理剂,其特征在于:

R1~R4所含的配位原子为选自氧和氮中的至少1种。

3.如权利要求1或2所述的表面处理剂,其特征在于:

R1为-R11-O-或-R11N(R12)-,

式中,R11在每次出现时分别独立地为单键或2价有机基团,R12为氢原子或1价有机基团。

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