[发明专利]感光聚合物组合物有效
申请号: | 201880021553.1 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN110494456B | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 金芙敬;金宪;张锡勋;张影来 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | C08F2/50 | 分类号: | C08F2/50;C08F20/18;C08F220/26;C08F299/02;C08F299/06;G03H1/04;G03H1/02 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 陈英俊;张云志 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光 聚合物 组合 | ||
本公开涉及一种感光聚合物组合物,包含:聚合物基质或其前体;光反应性单体,该光反应性单体包含折射率为1.5以下并且在25℃下的粘度为100cps以下的多官能(甲基)丙烯酸酯单体和折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体;以及光引发剂,其中,所述折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体在所述光反应性单体中的含量为60重量%以上。本公开还涉及一种由所述感光聚合物组合物制备的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件,以及使用所述感光聚合物组合物的全息记录方法。
技术领域
本申请要求于2017年4月25日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0053106的权益,该申请的公开内容通过引用全部并入本说明书中。
本公开涉及一种感光聚合物组合物、全息图记录介质、光学元件和全息记录方法。
背景技术
全息图记录介质通过曝光处理改变介质中全息记录层的折射率来记录信息,读取所记录的介质中的折射率的变化,并且再现该信息。
当使用感光聚合物(光敏树脂)时,光干涉图案通过低分子量单体的光聚合反应可以容易地存储为全息图。因此,感光聚合物可以用于各种领域中,如用于光学透镜、反光镜、偏转镜、滤光片、漫射屏、衍射元件、光导、波导、具有投影屏和/或掩模功能的全息光学元件、光学存储器系统和光漫射板的介质、光学波长多工器、反射型和透射型滤色器等。
通常,用于全息图制备的感光聚合物组合物包含聚合物粘合剂、单体和光引发剂,并且用激光干涉光照射由这种组合物制备的光敏膜来诱导局部单体的光聚合反应。
在这种光聚合反应过程中存在较大量的单体的部分中,折射率变高。此外,在存在较大量的聚合物粘合剂的部分中,折射率相对降低,因此,发生折射率调制,并且通过这种折射率调制产生衍射光栅。折射率调制值(△n)受感光聚合物层的厚度和衍射效率(DE)的影响,并且随着厚度减小,角度选择性增加。
近来,需要开发能够以高衍射效率保持稳定的全息图的材料,并且已经进行各种尝试来制备具有薄的厚度和高折射率调制值的感光聚合物层。
发明内容
技术问题
本公开提供一种感光聚合物组合物,该感光聚合物组合物可以更容易地提供即使以薄的厚度也具有高折射率调制值的感光聚合物层。
本公开还提供一种全息图记录介质,包括即使以薄的厚度也具有高折射率调制值的感光聚合物层。
本公开还提供一种包括上述全息图记录介质的光学元件。
本公开还提供一种全息记录方法,包括使用电磁辐射选择性地使感光聚合物组合物中含有的光反应性单体聚合。
技术方案
本公开提供一种感光聚合物组合物,包含:聚合物基质或其前体;光反应性单体,该光反应性单体包含折射率为1.5以下并且在25℃下的粘度为100cps以下的多官能(甲基)丙烯酸酯单体和折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体;以及光引发剂,其中,所述折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体在所述光反应性单体中的含量为60重量%以上。
本公开还提供一种由所述感光聚合物组合物制备的全息图记录介质。
另外,本公开提供一种包括所述全息图记录介质的光学元件。
本公开还提供一种全息记录方法,包括使用电磁辐射选择性地使所述感光聚合物组合物中含有的光反应性单体聚合。
下文中,将更详细地描述根据本发明的具体实施方案的感光聚合物组合物、全息图记录介质、光学元件和全息记录方法。
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