[发明专利]采用不同间距高度的测定在审
申请号: | 201880021832.8 | 申请日: | 2018-02-09 |
公开(公告)号: | CN111433606A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·Y·周;丁惟;戚骥;张玙璠 | 申请(专利权)人: | ESSENLIX公司 |
主分类号: | G01N33/543 | 分类号: | G01N33/543;B01L3/00;G01N33/58;G01N21/84 |
代理公司: | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 | 代理人: | 吴泳历 |
地址: | 美国新泽西州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 不同 间距 高度 测定 | ||
1.一种用于分析液体样品的装置,包含:
第一板、第二板以及间隔件,其中:
i.所述板可相对于彼此移动成不同的构造;
ii.一个或两个板是柔性的;
iii.所述第一板在其内表面上具有在不同位置处的第一和第二样品接触区域,并且所述第一板分别在所述第一和第二样品接触区域处具有第一和第二厚度,其中所述样品接触区域用于接触怀疑含有目标分析物的样品,并且其中所述第一厚度不同于所述第二厚度;
iv.所述间隔件固定到所述第一板内表面,并且在每个样品接触区域中具有预定的基本上均匀的高度;
v.每个所述间隔件中具有顶端,并且所述间隔件的顶端在一个表面中基本上对齐;
其中,所述构造中的一个是开放构造,在所述开放构造中,两个板是部分或完全分开的,所述板之间的间距不通过间隔件调节,并且所述样品沉积在所述板中的一个或两个上;并且
其中,所述构造中的另一个是闭合构造,所述闭合构造在所述样品在所述开放构造中沉积之后配置,并且在所述闭合构造中,所述沉积的样品的至少一部分通过所述两个板压缩到通过所述两个板限定的层中,并且在每个所述样品接触区域上具有各自的基本上均匀的厚度,其中所述层的均匀厚度通过所述各自的样品接触区域限定并且通过所述各自的样品接触区域中的板和间隔件调节。
2.一种使用QMAX装置分析样品的方法,所述方法包含:
(a)获取疑似含有目标分析物的样品;
(b)获取第一板、第二板和间隔件,其中:
i.所述板可相对于彼此移动成不同的构造,其包括开放构造和闭合构造;
ii.所述板中的一个或两个是柔性的;
iii.所述第一板在其内表面上在不同位置处具有第一和第二样品接触区域,并且所述第二板在其内表面上在分别对应于所述第一板的第一和第二样品接触区域的不同位置处具有第一和第二样品接触区域,其中所述样品接触区域用于接触样品;
iv.所述间隔件固定到所述板中的一个或两个的相应内表面,并且在每个样品接触区域中具有预定的基本上均匀的高度;
v.所述间隔件在所述第一样品接触区域中的高度与其在所述第二样品接触区域中的高度不同;
(c)当所述板处于所述开放构造时,将所述样品沉积在所述板中的一个或两个上;
其中所述开放构造是其中所述两个板部分或完全分离的构造,所述两个板之间的间隔不通过所述间隔件调节,并且所述样品沉积在所述板中的一个或两个上;
(d)在(c)之后,将所述两个板结合在一起并且将所述板按压成所述闭合构造,
其中所述按压包含平行地或顺序地适形按压所述板中的至少一个板的一个区域以将所述板按压在一起成为所述闭合构造,其中所述适形按压在所述样品的至少一部分上方在所述板上产生基本上均匀的压力,并且所述按压使所述样品的至少一部分在所述板的内表面之间横向展开;以及
其中所述闭合构造是在所述样品在所述开放构造中沉积之后配置的,并且在所述闭合构造中:分别对应的样品接触区域在彼此之上,并且所述沉积的样品的至少一部分通过所述两个板压缩到通过所述两个板限定的层中,并且在每个所述样品接触区域上方具有各自的基本上均匀的厚度,其中所述层的均匀厚度通过所述板的各自的样品接触区域限定并且通过所述各自的样品接触区域中的板和间隔件调节;
以及
(e)当所述板处于闭合构造时,分析所述均匀厚度层中的目标分析物。
3.使用QMAX装置的方法,为了实现平行多路复用测定,所述分析步骤(e)包含:
(1)将所述样品孵育相关时间长度后停止所述孵育;
(2)将所述样品孵育等于或长于相关时间长度的最小值的时间,然后在等于或小于相关时间长度的最大值的时间段内评估每个目标分析物与结合位点的结合,
由此产生反应,其中在(1)中所述孵育结束时或在(2)中所述评估期间,结合到每个结合位点的捕获剂-目标分析物-检测剂夹层中的大部分目标分析物来自所述样品的相应相关体积;
其中所述孵育允许每个目标分析物结合到结合位点和检测剂,其中所述相应的相关体积是在所述闭合构造下在相应的储存位点上方的样品的一部分。
4.如权利要求1所述的装置,其中所述间隔件的均匀高度在0.5μm至100μm的范围内。
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