[发明专利]QMAX测定及应用

权利要求书

1.一种用于进行竞争性测定的方法，包含

(a)获取第一板，第一板在其内表面上包含具有结合位点的样品接触区域，其中，结合位点包含与样品中的目标分析物结合的固定捕获剂；

(b)获取第二板，第二板包含具有储存位点的样品接触区域，其中，储存位点包含能够在接触样品时在样品中扩散的竞争剂，其中，竞争剂与分析物竞争来与结合位点处的捕获剂结合，其中，第一板和第二板可相对于彼此移动成不同的构造，包括开放构造和闭合构造；

(c)在开放构造中，将样品沉积在板的样品接触区域中的一个或两个上，其中，在开放构造中，板的样品接触区域间隔大于200μm；

(d)在(c)之后，使两个板变为闭合构造，其中，在闭合构造中，在(c)中沉积的至少一部分样品被限定在两个板的样品接触区域之间并且其平均厚度在0.01μm至200μm的范围内；以及

(e)检测来自(i)由结合位点捕获的竞争剂、(ii)由结合位点捕获的分析物、或(iii)(i)和(ii)两者的信号。

2.一种用于进行竞争性测定的装置，包含：

第一板、第二板、结合位点以及储存位点，其中：

第一板在其内表面上包含具有结合位点的样品接触区域，其中，结合位点包含与样品中的目标分析物结合的固定捕获剂；

第二板包含具有储存位点的样品接触区域，其中，所述储存位点包含能够在接触所述样品时在样品中扩散的竞争剂，其中，所述竞争剂与所述分析物竞争来与结合位点处的捕获剂结合；

其中，所述第一板和所述第二板可相对于彼此移动成不同的构造；

其中，其中一个构造中是开放构造，在开放构造中，所述板是部分或完全分开的，并且所述板的所述样品接触区域之间的平均间距大于300μm；并且

其中，另一个构造是闭合构造，在闭合构造中，所述板的所述样品接触区域之间的平均间距为200μm或以下。

3.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，所述样品接触区域中的一个或两个包含间隔件，其中，当所述板处于闭合构造时，所述间隔件调节所述板的所述样品接触区域之间的间距。

4.如任一前述实施例所述的方法，其中，所述板处于闭合构造时，所述样品接触区域之间的间距由间隔件调节。

5.如任一前述实施例所述的装置，其中，该装置还包含间隔件，所述间隔件在所述板处于闭合构造时调节所述样品接触区域之间的间距。

6.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，除所述竞争剂之外，所述储存位点还包含另一种试剂。

7.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，除固定捕获剂之外，所述结合位点还包含另一种在接触样品时能够在样品中扩散的试剂。

8.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，当所述板处于闭合构造时，所述结合位点面对所述储存位点。

9.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，所述第一板包含多个结合位点，并且第二板包含多个对应的储存位点，其中，当所述板处于闭合构造时，每个结合位点面对对应的储存位点。

10.如任一前述实施例所述的方法和装置，其中，所述检测剂在所述储存位点上干燥。

11.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，所述结合位点处的所述捕获剂位于扩增表面上，所述扩增表面扩增所述分析物或被捕获的竞争剂的光学信号。

12.如任一前述实施例所述的方法或装置，其中，所述结合位点处的所述捕获剂位于扩增表面上，所述扩增表面扩增实施例1、2和3中的所述分析物或所述被捕获的竞争剂的光学信号，其中，所述扩增取决于邻近度，因为所述扩增随着所述捕获剂与所述分析物或所述竞争剂之间的距离增加而显著减小。