[发明专利]校准气体传感器在审

专利信息
申请号: 201880023786.5 申请日: 2018-04-05
公开(公告)号: CN110520727A 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: D·埃格利;T·肖赫;F·赫内 申请(专利权)人: 盛思锐股份公司
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 石海霞;金鹏<国际申请>=PCT/EP2
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 重新校准 气体传感器 感测元件 目标气体 金属氧化物 电阻测量 基准电阻 敏感 更新 表现
【权利要求书】:

1.一种用于运行气体传感器(1)的方法,所述气体传感器(1)包括由包括金属氧化物并且对目标气体和不同于目标气体的重新校准气体敏感的材料制成的感测元件(11),所述方法包括以下步骤:

在表现出重新校准气体基准浓度(CBaseRG)的重新校准环境(E3)中重新校准气体传感器(1),

其中,

选择感测元件(11)的材料,以使

对于目标范围内的目标气体浓度(Csens),感测元件(11)的传感器响应超过感测元件(11)对于基准范围内重新校准气体浓度的传感器响应,以及

对于基准范围内的目标气体浓度(Csens),感测元件(11)的传感器响应小于感测元件(11)对于基准范围内重新校准气体浓度的传感器响应。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述重新校准气体是氢气或甲烷中的一种。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述气体传感器(1)被布置在壳体中或壳体处,

其中,所述重新校准气体是存在于所述壳体中的背景气体,

优选地,其中,所述壳体是装置,特别是便携式装置的壳体,并且其中,所述重新校准气体是存在于所述装置的壳体中的背景气体,或者

优选地,其中,所述壳体是气体传感器的壳体,并且其中,所述重新校准气体是存在于气体传感器的壳体中的背景气体。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,包括以下步骤:

为了识别气体传感器(1)的环境(E2)中目标气体浓度(Csens):测量感测元件(11)的电阻(Rsens),根据测得的电阻(Rsens)并根据初始重新校准气体基准电阻值(RIniBaseRG)确定目标气体浓度(Csens),

为了重新校准气体传感器(1):在重新校准环境(E3)中测量感测元件(11)的重新校准气体基准电阻(RBaseRG),

为了在气体传感器(1)的重新校准之后,识别气体传感器(1)的环境(E2)中目标气体浓度(Csens):测量感测元件(11)的电阻(Rsens),并根据测得的电阻(Rsens)和根据重新校准气体基准电阻(RBaseH)确定目标气体浓度(Csens)。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,

其中,测得的重新校准气体基准电阻(RBaseH)存储在以下之一中:

-包括感测元件(11)的半导体芯片的存储器;

-在与包括感测元件(11)的半导体芯片分离的半导体芯片中实现的微处理器的存储器;

-在包括气体传感器(1)的装置中设置的存储器;

-远离气体传感器(1)的存储器,优选地是表示云的服务器中的存储器。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,包括

自动检测气体传感器(1)何时暴露于符合重新校准环境(E3)的环境中,以及

响应于检测到气体传感器(1)暴露于符合重新校准环境(E3)的环境,从而触发重新校准步骤。

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