[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880024097.6 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN110494806A 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 畠山直也;米久田康智;吉村务;东耕平;西田阳一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;C08F12/12;C08F22/02;C08F22/10;G03F7/004;G03F7/20
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 曹阳<国际申请>=PCT/JP2018/
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 树脂 感放射线性树脂组合物 感光 射线 蚀刻 玻璃化转变 电子器件 芳香族环 抗蚀剂膜 耐龟裂性 耐蚀刻性 酸分解性 图案形成 均聚物 掩模 图案 制造
【权利要求书】:

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其含有树脂且固体成分浓度为10质量%以上,该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,

所述树脂包含:

以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元即重复单元A;及

具有酸分解性基的重复单元即重复单元B,

所述重复单元B的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为20摩尔%以下,

所述树脂所具有的重复单元中的至少1种为具有芳香族环的重复单元。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中

所述重复单元A的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为5摩尔%以上。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述重复单元A的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为10摩尔%以上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述重复单元A是以制成均聚物时的玻璃化转变温度为30℃以下的单体为来源的重复单元。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述重复单元A具有任选具有杂原子且碳原子数为2以上的非酸分解性链状烷基。

6.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述重复单元A为以下通式(1)所表示的重复单元,

通式(1):

通式(1)中,R1表示氢原子、卤素原子或烷基;R2表示任选包含杂原子且碳原子数为2以上的非酸分解性链状烷基。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述重复单元A为以下通式(2)所表示的重复单元,

通式(2):

通式(2)中,R3表示氢原子、卤素原子或烷基;R4表示任选包含杂原子且具有羧基或羟基的非酸分解性烷基。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述树脂除了包含所述重复单元A及所述重复单元B以外,还包含具有羧基的重复单元C。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,

所述树脂除了包含所述重复单元A及所述重复单元B以外,还包含具有酚性羟基的重复单元D。

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