[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
申请号: | 201880024097.6 | 申请日: | 2018-05-11 |
公开(公告)号: | CN110494806A | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | 畠山直也;米久田康智;吉村务;东耕平;西田阳一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;C08F12/12;C08F22/02;C08F22/10;G03F7/004;G03F7/20 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 曹阳<国际申请>=PCT/JP2018/ |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 树脂 感放射线性树脂组合物 感光 射线 蚀刻 玻璃化转变 电子器件 芳香族环 抗蚀剂膜 耐龟裂性 耐蚀刻性 酸分解性 图案形成 均聚物 掩模 图案 制造 | ||
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其含有树脂且固体成分浓度为10质量%以上,该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,
所述树脂包含:
以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元即重复单元A;及
具有酸分解性基的重复单元即重复单元B,
所述重复单元B的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为20摩尔%以下,
所述树脂所具有的重复单元中的至少1种为具有芳香族环的重复单元。
2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中
所述重复单元A的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为5摩尔%以上。
3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述重复单元A的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为10摩尔%以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述重复单元A是以制成均聚物时的玻璃化转变温度为30℃以下的单体为来源的重复单元。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述重复单元A具有任选具有杂原子且碳原子数为2以上的非酸分解性链状烷基。
6.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述重复单元A为以下通式(1)所表示的重复单元,
通式(1):
通式(1)中,R1表示氢原子、卤素原子或烷基;R2表示任选包含杂原子且碳原子数为2以上的非酸分解性链状烷基。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述重复单元A为以下通式(2)所表示的重复单元,
通式(2):
通式(2)中,R3表示氢原子、卤素原子或烷基;R4表示任选包含杂原子且具有羧基或羟基的非酸分解性烷基。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述树脂除了包含所述重复单元A及所述重复单元B以外,还包含具有羧基的重复单元C。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,
所述树脂除了包含所述重复单元A及所述重复单元B以外,还包含具有酚性羟基的重复单元D。
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