[发明专利]具有压力感测和控制的灌洗系统

权利要求书

1.一种用于肛门和/或造口灌洗的灌洗系统，所述灌洗系统包括：

-灌洗液体储器；

-导管系统，所述导管系统具有可连接至所述储器的第一端以及可连接至插管的第二端、用于在所述储器与所述插管之间为所述灌洗液体提供第一流体路径，所述插管包括用于从所述插管排出灌洗液体的远端；

-一个或多个压力传感器，包括用于提供第一压力信号的第一压力传感器；

-泵，所述泵能操作来将所述灌洗液体从所述储器泵送至所述导管系统的第二端；以及

-控制系统，所述控制系统连接至所述第一压力传感器并且被配置用于基于所述第一压力信号来操作所述泵，

其中，所述导管系统包括压力通道和第一薄膜，其中，所述第一薄膜布置在所述第一流体路径与所述压力通道之间，并且所述第一压力传感器被配置用于测量所述压力通道内的压力。

2.根据权利要求1所述的灌洗系统，其中，所述导管系统在所述第二端处包括第二连接器，并且所述第一薄膜布置在所述第二连接器中。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的灌洗系统，其中，所述灌洗系统包括附接至所述导管系统的用户控制界面壳体，其中，所述第一压力传感器布置在所述用户控制界面壳体中。

4.根据权利要求1至2中任一项所述的灌洗系统，其中，所述第一压力传感器布置在容纳所述储器的储器壳体中。

5.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述导管系统包括平行于所述第一流体路径的第二流体路径，用于将第二流体给送至所述导管系统的第二端。

6.根据权利要求3所述的灌洗系统，其中，所述一个或多个压力传感器包括用于提供第二压力信号的第二压力传感器，其中，所述控制系统连接至所述第二压力传感器并且被配置用于基于所述第二压力信号来操作所述泵。

7.根据权利要求6所述的灌洗系统，其中，所述第二压力传感器布置在所述用户控制界面壳体中。

8.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述第一压力信号指示所述压力通道内的压力与环境压力之间的相对压力。

9.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述第一压力信号指示所述压力通道内的绝对压力。

10.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述导管系统包括布置在所述压力通道内的第二薄膜，并且其中，所述第一压力传感器被配置用于经由所述第二薄膜来测量所述压力通道内的压力。

11.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述压力通道填充有气体。

12.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述第一薄膜被布置成距所述第二端小于50cm的距离。

13.根据权利要求1或2所述的灌洗系统，其中，所述控制系统被配置成，如果所述压力通道内的压力大于第一压力阈值，则操作所述泵以减小所述第一流体路径内的灌洗液体压力。