[发明专利]用于制造多单元条带的方法及其应用

权利要求书

1.一种用于制造多单元条带(20)的方法，所述方法具有步骤：

-在中间载体上制造多单元节段(21)，其中，多单元节段(21)设置用于施加在目标基底(10)的多单元区域(12)上；

-针对每个多单元节段(21)在中间载体上制造两个外部节段(22)，其中，所述两个外部节段(22)设置用于施加在目标基底(10)的外部区域(16)上，并且其中，按照多单元节段(21)的两个外部节段(22)中的一个外部节段、多单元节段(21)、和两个外部节段(22)中的另一个外部节段的长度形成多单元条带(20)；

-为了将多单元条带(20)施加在目标基底(10)上，在中间载体上对多单元条带(20)的两个外部节段(22)进行预结构化，其中，中间载体是中间载体幅面(30)，在所述中间载体幅面上并排地制造多个多单元条带(20)；并且

-将中间载体幅面(30)切割为多个条带部分幅面(32)，在所述条带部分幅面上沿着长度彼此相继地分别布置有多个经预结构化的多单元条带(20)。

2.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预结构化沿纵向彼此错移地进行，以实现并排地处于中间载体幅面(30)上的多单元条带。

3.按权利要求2所述的方法，其特征在于，至少将并排的多单元条带沿纵向彼此错移地制造。

4.按权利要求2所述的方法，其特征在于，所述并排的多单元条带错移地进行预结构化，其中，预结构化错移量大于4mm。

5.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述外部节段(22)包括最小节段(26)和预结构化节段(27)，所述最小节段施加在目标基底(10)上。

6.按权利要求2所述的方法，其特征在于，将多单元条带(20)施加在目标基底上的过程具有位置公差地进行，其中预结构化错移量大于两倍的位置公差。

7.按权利要求5所述的方法，其特征在于，将多单元条带(20)施加在目标基底上的过程具有位置公差地进行，其中，最小节段大于两倍的位置公差。

8.按权利要求1所述的方法，其特征在于，将多单元条带(20)施加在目标基底上的过程具有位置公差地进行，其中，预结构化公差大于位置公差。

9.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述中间载体幅面(30)包括主要载体(731、831)和次要载体(733、833)，其中，在预结构化的步骤中只改变次要载体(733、833)。

10.按权利要求9所述的方法，其特征在于，在次要载体(733、833)上的多单元条带(20)的预结构化步骤之后，将主要载体(731、831)在背侧粘贴到次要载体(733、833)上。

11.按权利要求1所述的方法，其特征在于，在预结构化的步骤中，机械地、化学地或者照射地改变和/或移除所制造的外部节段。

12.按权利要求1所述的方法，其特征在于，两个相邻的多单元节段的外部节段共同被预结构化，方式是

-这些外部节段具有共同的预结构化节段(27)或者

-存在由中间区域(23)分隔开的预结构化节段(27)，其中，预结构化节段(27)和中间区域(23)共同地并且统一地被预结构化。

13.按权利要求1所述的方法，其特征在于，在制造外部节段的步骤中，在至少一个所述外部节段中制造用于相对目标基底定位多单元节段的定位辅助件和/或生产识别符，所述生产识别符明确地识别多单元条带(20)、条带部分幅面(32)和/或中间载体幅面(30)。

14.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所制造的多单元节段(21)包括至少三个子层。