[发明专利]用于立式辊磨机的研磨稳定添加剂

权利要求书

1.一种在立式辊磨机（VRM）中研磨固体的方法，其包括：

在研磨稳定添加剂存在下研磨至少一种固体，其中所述研磨稳定添加剂包含具有下列结构式的烷醇氨基酸化合物或其二钠或二钾盐：

其中：

R¹是(C₁-C₄)烷基-OH；且

R²和R³各自独立地为(C₀-C₃)烷基-COOR*，其中R*是H、Na⁺、K⁺或½Ca⁺⁺。

2.权利要求1的方法，其中所述固体包含水泥熟料、石灰石、石膏、补充胶结料或其混合物的一种或多种。

3.权利要求1或权利要求2的方法，其中所述研磨稳定添加剂包含乙醇二甘氨酸（EDG）、异丙醇二甘氨酸（IPDG）、EDG二钠、EDG二钾、IPDG二钠、IPDG二钾或其混合物；其中EDG、IPDG、EDG二钠、EDG二钾、IPDG二钠、IPDG二钾或其混合物以基于研磨的固体的干重量计0.001-0.04%的量存在。

4.权利要求1、2或3任一项的方法，其进一步包括在至少一种补充添加剂存在下研磨固体，所述补充添加剂选自：

(A) 基于研磨的固体的干重量计0.001%至0.1%的量的选自二醇或甘油的研磨剂；

(B) 基于研磨的固体的干重量计0.001-0.1%的量的选自叔烷醇胺或其乙酸盐的补充剂；

(C) 基于研磨的固体的干重量计0.001%至0.06%的量的选自葡糖酸盐、糖蜜、蔗糖或玉米糖浆的缓凝剂；

(D) 基于研磨的固体的干重量计0.001%至0.2%的量的选自硫氰酸盐、氯化物盐或其混合物的促凝剂；

(E) 基于研磨的固体的干重量计0.005%至0.1%的量选自乙酸钠、乙酸钾或其混合物的分散剂。

5.权利要求4的方法，其中所述补充剂选自三乙醇胺（“TEA”）、三异丙醇胺（“TIPA”）、二乙醇丙醇胺（“DEIPA”）、乙醇二异丙醇胺（“EDIPA”）、四羟乙基乙二胺（“THEED”）、上述任一种的乙酸盐、或上述任何材料的混合物。

6.权利要求1-4任一项的方法，其中所述研磨稳定添加剂包含EDG、IPDG、EDG二钠、EDG二钾、IPDG二钠、IPDG二钾或其混合物；

所述方法进一步包括在选自：(A) DEIPA、EDIPA、TIPA、TEA、THEED、DEIPA乙酸盐、EDIPA乙酸盐、TIPA乙酸盐、TEA乙酸盐、THEED乙酸盐或其混合物的至少一种；和(B) 乙酸钠、乙酸钾或其混合物；或(A)和(B)的混合物的至少一种试剂存在下研磨固体。

7.权利要求1-6任一项的方法，其中所述固体包含选自飞灰、粒状高炉矿渣、石灰石、煅烧粘土、天然火山灰和人造火山灰的补充胶结材料。

8.权利要求1-7任一项的方法，其中所述固体包含水泥熟料，

所述方法进一步包括在选自研磨剂、缓凝剂、促凝剂或分散剂的至少两种试剂存在下研磨固体。

9.权利要求1-7任一项的方法，其中所述固体包含水泥熟料；

所述方法包括在研磨剂存在下研磨固体，并且进一步地，其中：

研磨稳定添加剂以基于研磨的固体的干重量计0.001%至0.04%的量存在，且

研磨剂以基于研磨的固体的干重量计0.001%至0.10%的量存在。

10.权利要求9的方法，其中研磨剂以基于研磨的固体的干重量计0.005%至0.02%的量存在。