[发明专利]FeNi有序合金、FeNi有序合金磁铁及FeNi有序合金的制造方法

说明书

制成具有L1₀型的有序结构、有序度为0.4以上、并且顽磁力为87.5kA/m以上的FeNi有序合金。例如通过在将FeNi无序合金进行氮化处理之后进行脱氮处理，得到L1₀型的FeNi有序合金。关于FeNi无序合金，将体积平均粒径例如设定为45nm以上，关于氮化处理，例如将处理温度设定为300℃以上且500℃以下，将处理时间设定为10小时以上。

与关联申请的相互参照

本申请基于2017年4月13日申请的日本专利申请号2017-80025号，其记载内容通过参照被纳入于此。

技术领域

本公开涉及具有L1₀型的有序结构的L1₀型的FeNi有序合金及使用这样的L1₀型的FeNi有序合金而构成的FeNi有序合金磁铁。

背景技术

L1₀型(L1₀型)的FeNi(铁-镍)有序合金作为完全不使用稀土金属或贵金属的磁铁材料及磁记录材料而受到期待。其中，所谓L1₀型有序结构是以面心立方晶格为基本而Fe和Ni沿(001)方向排列成层状的晶体结构。这样的L1₀型有序结构在FePt、FePd、AuCu等合金中被见到，通常，通过将无序合金在有序-无序转变温度Tλ以下进行热处理而促进扩散来获得。

但是，用于得到L1₀型的FeNi有序合金的转变温度Tλ为320℃的低温，由于在该温度以下时扩散极慢，所以难以仅通过热处理来合成。于是，一直以来，进行了用于合成L1₀型的FeNi有序合金的各种尝试。

具体而言，以往，还提出了非专利文献1中记载的那样的使用分子束外延(简称：MBE)而将Fe与Ni的单原子膜交替层叠的方法；此外一边照射中子一边在磁场中进行热处理的方法等。

现有技术文献

非专利文献

非专利文献1：KojimA等.、“Fe-Ni composition dependence of magneticanisotropy in artificially fabricated L1₀-ordered FeNi films”、J.Phys.：Condens.Matter、vol.26、(2014)、064207

发明内容

然而，通过上述非专利文献1那样的使用了分子束外延的方法或使用了中子照射的方法这样的以往的方法而得到的L1₀的FeNi有序合金的有序度最大也成为0.4左右，整体上较小。另外，并非在FeNi有序合金的材料的整体中有序度变得最大，而是仅仅局部地存在有序度变高的部分。进而，关于所得到的FeNi有序合金的顽磁力，没有大到可以将FeNi有序合金作为磁铁材料或磁记录材料使用的程度。例如，作为磁记录材料，要求保存数据不会因环境磁场而改写的程度的顽磁力。

本公开的目的是提供也可以作为磁铁材料或磁记录材料使用的FeNi有序合金、和提供使用其而构成的FeNi有序合金磁铁。

本公开的第1观点中的FeNi有序合金具有L1₀型的有序结构，材料的整体的平均有序度被设定为0.4以上，并且，顽磁力被设定为87.5kA/m以上。

像这样，通过制成有序度为0.4以上、并且顽磁力为87.5kA/m以上的FeNi有序合金，能够制成也可以作为磁铁材料或磁记录材料使用的FeNi有序合金。例如，使用这样的FeNi有序合金，可以制成FeNi有序合金磁铁。