[发明专利]光学元件以及光学薄膜有效
| 申请号： | 201880024875.1 | 申请日： | 2018-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN110691995B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 川岸秀一朗;山下照夫;白石幸一郎 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;唐瑞庭 |
| 地址： | 日本东京都新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 以及 光学薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学元件，其包括：
光学元件主体；
形成在所述光学元件主体的表面上的多层膜即光学薄膜；
在所述光学薄膜中，
最上层的膜是作为多孔膜的亲水性膜，
所述最上层的下一层的膜是作为致密膜的底膜，
所述亲水性膜的气孔率为2％以上20％以下，
所述亲水性膜的物理膜厚为0.5nm以上20nm以下，
所述底膜的气孔率不足2％。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，
所述亲水性膜以及所述底膜的至少一方为SiO2、ZrO2、Al2O3、TiO2、Ti3O5、Ta2O5以及Nb2O5中的单体或者包括这些在内的混合材料。
3.根据权利要求2所述的光学元件，其中，
所述亲水性膜为SiO2膜。
4.根据权利要求2或3所述的光学元件，其中，
所述底膜为SiO2膜。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的光学元件，其中，
所述亲水性膜为通过EB(电子束)气相沉积形成的膜，
所述底膜为通过IAD(离子辅助气相沉积)形成的膜。
6.一种光学薄膜，其为作为多层膜的光学薄膜，其中，
最上层的膜是作为多孔膜的亲水性膜，
所述最上层的下一层的膜是作为致密膜的底膜，
所述亲水性膜的气孔率为2％以上20％以下，
所述亲水性膜的物理膜厚为0.5nm以上20nm以下，
所述底膜的气孔率不足2％。
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