[发明专利]杂环化合物与包含其的有机发光装置在审
申请号: | 201880024884.0 | 申请日: | 2018-03-26 |
公开(公告)号: | CN110573506A | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 卢永锡;边志玧;金东骏 | 申请(专利权)人: | 喜星素材株式会社 |
主分类号: | C07D405/14 | 分类号: | C07D405/14;C07D495/04;C07D491/048;C09K11/06;H01L51/00;H01L51/50 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张晓霞;臧建明 |
地址: | 韩国京畿道龙仁市处仁区南四*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机发光装置 杂环化合物 | ||
1.种杂环化合物,由以下化学式1表示:
[化学式1]
在化学式1中,
N-Het为经取代或未经取代的单环杂环基或多环杂环基,且包括一或多个N;
L为直接键;经取代或未经取代的亚芳基;或经取代或未经取代的亚杂芳基,a为1至3的整数,且当a为2或大于2时,L彼此相同或不同;以及
R1至R10彼此相同或不同,且各自独立地由下列所构成的族群中选出:氢;氘;卤素;氰基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;经取代或未经取代的氧化膦基团;以及经取代或未经取代的胺基,或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环或杂环,b及c各自为1至3的整数,且当b为2或大于2时,R9彼此相同或不同,且当c为2或大于2时,R10彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化学式2至化学式5中的一者表示:
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5]
在化学式2至化学式5中,取代基具有与化学式1中相同的定义。
3.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化学式6至化学式8中的一者表示:
[化学式6]
[化学式7]
[化学式8]
在化学式6至化学式8中,R1至R10、L、a、b以及c具有与化学式1中相同的定义;
X1为CR11或N,X2为CR12或N,X3为CR13或N,X4为CR14或N,以及X5为CR15或N;以及
R11至R15及R17至R22彼此相同或不同,且各自独立地由下列所构成的族群中选出:氢;氘;卤素;氰基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;经取代或未经取代的氧化膦基团;以及经取代或未经取代的胺基,或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环或杂环。
4.根据权利要求3所述的杂环化合物,其中由以下化学式9至化学式11中的任一者表示:
[化学式9]
[化学式10]
[化学式11]
在化学式9中,X1、X3以及X5中的一或多者为N,且其余部分具有与化学式6中相同的定义;
在化学式10中,X1、X2以及X5中的一或多者为N,且其余部分具有与化学式6中相同的定义;
在化学式11中,X1至X3中的一或多者为N,且其余部分具有与化学式6中相同的定义;且
R12、R14及R23至R26彼此相同或不同,且各自独立地由下列所构成的族群中选出:氢;氘;卤素;氰基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;经取代或未经取代的氧化膦基团;以及经取代或未经取代的胺基,或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环或杂环。
5.根据权利要求4所述的杂环化合物,其中化学式9自以下结构式中选出:
在结构式中,R11至R15彼此相同或不同,且各自独立地由下列所构成的族群中选出:氢;氘;卤素;氰基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;经取代或未经取代的氧化膦基团;以及经取代或未经取代的胺基,或彼此相邻的两个或大于两个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环或杂环。
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