[发明专利]用于确定和/或监视填充水平的方法有效
申请号: | 201880025346.3 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN110520698B | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 丹尼尔·米勒;克劳斯·潘克拉茨;西蒙·格雷思 | 申请(专利权)人: | 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司 |
主分类号: | G01F25/00 | 分类号: | G01F25/00;G01F23/284;G01F23/296 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 穆森;戚传江 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 监视 填充 水平 方法 | ||
1.一种用于通过填充水平测量装置(3)确定和/或监视过程设施的容器(2)中的填充物质(1)的填充水平(L)的方法,所述填充水平测量装置根据行程时间原理工作,并且在测量操作(O)中在所述容器(2)中的所述填充物质(1)的方向上发射被发射的信号(S),并且基于在所述容器(2)中反射回的信号部分查明回波曲线(EK),所述回波曲线表示反射回的信号部分的振幅(A)随行程时间(t)变化,
其中,所述回波曲线(EK)被发射到上级控制单元(4),和/或创建包络所述回波曲线(EK)的包络曲线(HK)并将所述包络曲线(HK)发射到所述上级控制单元(4),
其中,所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)由所述上级控制单元(4)评估,其中在评估所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)时,识别所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)的想要的回波信号(WE),其行程时间(t)用作查明当前填充水平(L)的基础,
其中,在确定和/或监视所述填充水平(L)期间,所述填充物质(1)和/或所述容器(2)经历至少一个当前过程(P1,..),
其中,在所述上级控制单元(4)中提供有关至少一个当前过程(P1,..)的信息,并且
其中,基于与所述当前过程(P1;..)有关的信息,检查所述想要的回波信号(WE)的似真性,和/或评估——尤其是所述想要的回波信号(WE)的识别——动态地适应于所述当前过程(P1;..)。
2.根据权利要求1所述的方法,
其中,在所述评估中,识别所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)的干扰回波信号(DES),并且
其中,所述干扰回波信号(DES)的识别适应于所述当前过程(P1,..)。
3.根据前述权利要求中的至少一项所述的方法,
其中,借助于具有至少一个自由可选择的参数(5,..)的评估算法,发生对所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)的评估,尤其是对所述想要的回波信号(WE)和/或所述干扰回波信号(DES)的识别,并且
其中,基于所述当前过程(P1,..),建立所述至少一个自由可选择的参数(5,..)。
4.根据前述权利要求中的至少一项所述的方法,
其中,在不同于测量操作的初始化操作中,优选地在启动所述填充水平测量装置(3)的背景下,所述填充物质(1)和/或所述容器(2)经历测量操作中出现的至少一个过程(P1;..),
其中,所述填充水平测量装置(3)在所述初始化操作中发送在所述容器(2)中所述填充物质(1)的方向上的被发射的信号(S),并基于在所述容器(2)中反射回的信号部分查明回波曲线(EK),
其中,所述回波曲线被发射到所述过程设施的上级控制单元(4),和/或包络所述回波曲线(EK)的包络曲线(HK)被创建并被发射到所述上级控制单元(4),
其中,所述当前过程(P1;..)对所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)的影响由所述上级控制单元(4)登记,并且通过这些影响,确定用于适应所述评价,尤其是用于适应所述想要的回波信号(WE)和/或所述干扰回波信号(DES)的识别,的至少一种规范——优选地是所述至少一个自由可选择的参数(5,..)的选择,并将至少一种规范存储在所述上级控制单元(4)中,并且
其中,在测量操作中,然后在所述当前过程(P1;..)的所述评价的动态适应中,尤其是在所述想要的回波信号(WE)和/或所述干扰回波信号(DES)的识别的动态适应中,使用在所述初始化操作中存储的所述规范,优选地是所述至少一个自由可选择的参数(5,..)。
5.根据前述权利要求中的至少一项所述的方法,
其中,所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)经由通信网络(6),尤其是经由自动化技术的现场总线和/或经由以太网,有线地和/或无线地发射到所述上级控制单元(4)。
6.根据前述权利要求中的至少一项所述的方法,
其中,仅在所述上级控制单元(4)询问时才将所述回波曲线(EK)和/或所述包络曲线(HK)从所述填充水平测量装置(3)发射到所述上级控制单元(4)。
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