[发明专利]制造具有高比表面积的材料的方法

权利要求书

1.一种制备具有高比表面积且包含通过透射电子显微镜测定尺寸为2nm-50nm的介孔的材料的方法，

所述方法包括喷雾基于衍生自化学提取熟料的液体残余物的液体组合物的步骤，所述熟料表示工业来源的焚烧熟料和家庭废物焚烧熟料两者，

其中所述基于衍生自化学提取熟料的液体残余物的液体组合物包含结构剂和基质前体，所述结构剂选自表面活性剂；聚乙二醇、聚乙烯醇、聚丙烯酰胺或聚乙烯吡咯烷酮；基于纤维素的化合物；无机盐及其混合物，并且所述基质前体选自硅酸、烷氧基硅、硅酸盐、胶体二氧化硅、四氯化硅及其混合物，

其中所述结构剂与所述基质前体之间的摩尔比为0.002-0.5。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其包括制备所述液体组合物的预备步骤，其特征在于所述组合物通过将所述衍生自化学提取熟料的液体残余物与所述结构剂混合来制备。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于所述衍生自化学提取熟料的液体残余物的液体组合物通过熟料的固/液提取获得。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于所述固/液提取用酸性和/或氧化溶液进行。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于所述酸性和/或氧化溶液选自盐酸(HCl)、硫酸(H₂SO₄)、氢氟酸(HF)，氧化钠(Na₂O)或氧化钾(K₂O)及其混合物。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于所述酸性和/或氧化溶液为盐酸(HCl)溶液。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于所述酸性和/或氧化溶液为30质量％-40质量％的盐酸(HCl)溶液。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于所述酸性和/或氧化溶液为37质量％的盐酸(HCl)溶液。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述结构剂为表面活性剂。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于所述表面活性剂为非离子表面活性剂。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于所述表面活性剂为聚乙二醇十六烷基醚。

12.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述基质前体为四氯化硅。

13.根据权利要求2-11之一所述的制备方法，其特征在于在所述喷雾步骤之后，所述方法包括去除结构剂的步骤。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述去除结构剂的步骤是煅烧步骤。

15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述煅烧在400℃-600℃的温度下进行。

16.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述煅烧在450℃-550℃的温度下进行。

17.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述煅烧在500℃的温度下进行。

18.根据权利要求14-17之一所述的制备方法，其特征在于所述煅烧步骤进行1-3小时。

19.根据权利要求14-17之一所述的制备方法，其特征在于所述煅烧步骤进行2小时。