[发明专利]具有电极线状物的等离子体反应器

权利要求书

1.一种等离子体反应器，包括：

腔室主体，所述腔室主体具有提供等离子体腔室的内部空间并且具有顶板；

气体分配器，所述气体分配器用于将处理气体输送至所述等离子体腔室；

泵，所述泵耦合至所述等离子体腔室以抽空所述腔室；

工件支撑件，所述工件支撑件用于保持工件面向所述顶板；

腔室内电极组件，所述腔室内电极组件包括绝缘框架和在所述顶板与所述工件支撑件之间横向延伸穿过所述等离子体腔室的线状物，所述线状物包括导体，所述导体至少部分地由绝缘外壳围绕，所述绝缘外壳从所述绝缘框架延伸；和

第一RF功率源，所述第一RF功率源用于向所述腔室内电极组件的所述导体供应第一RF功率。

2.如权利要求1所述的等离子体反应器，其中所述绝缘外壳包括圆柱形外壳，所述圆柱形外壳在所述等离子体腔室内围绕整个所述导体并且沿着整个所述导体延伸。

3.如权利要求1所述的等离子体反应器，其中所述绝缘外壳由硅或者氧化物、氮化物或碳化物材料或上述材料的组合形成。

4.如权利要求3所述的等离子体反应器，其中所述绝缘外壳由硅石(silica)、蓝宝石或碳化硅形成。

5.如权利要求1所述的等离子体反应器，其中所述圆柱形外壳形成通路，并且所述导体悬在所述通路中并延伸穿过所述通路，或者所述导体包含中空通路。

6.如权利要求5所述的等离子体反应器，进一步包括流体源，所述流体源经构造而使流体通过所述通路循环。

7.如权利要求6所述的等离子体反应器，其中所述流体包含非氧化性气体。

8.如权利要求6所述的等离子体反应器，包括热交换器，所述热交换器经构造以从所述流体中去除热量或向所述流体供应热量。

9.如权利要求1所述的等离子体反应器，其中所述腔室内电极组件包括复数个共面线状物，所述复数个共面线状物在所述顶板与所述工件支撑件之间横向延伸穿过所述等离子体腔室。

10.如权利要求9所述的等离子体反应器，其中所述复数个共面线状物均匀地间隔开。

11.如权利要求9所述的等离子体反应器，其中所述复数个共面线状物包括直线线状物。

12.如权利要求11所述的等离子体反应器，其中所述复数个共面线状物平行地延伸通过所述等离子体腔室。

13.如权利要求1所述的等离子体反应器，其中所述外壳熔合至所述绝缘框架。

14.如权利要求1所述的等离子体腔室，其中所述外壳与所述绝缘框架为相同的材料组成。

15.如权利要求1所述的等离子体腔室，其中所述绝缘框架由硅石或陶瓷材料形成。

16.一种等离子体反应器，包括：

腔室主体，所述腔室主体具有内部空间，所述内部空间提供等离子体腔室并且具有顶板；

气体分配器，所述气体分配器用于将处理气体输送至所述等离子体腔室；

泵，所述泵耦合至所述等离子体腔室以抽空所述腔室；

工件支撑件，所述工件支撑件用于保持工件；

腔室内电极组件，所述腔室内电极组件包括绝缘框架和线状物，所述线状物包括从所述顶板向下延伸的第一部分和在所述顶板与所述工件支撑件之间横向延伸穿过所述等离子体腔室的第二部分，所述线状物包括导体，所述导体至少部分地由绝缘外壳围绕；和

第一RF电源，所述第一RF电源用于向所述腔室内电极组件的所述导体供应第一RF功率。