[发明专利]前或后开口的侧边闭合式吸收制品有效
申请号: | 201880027023.8 | 申请日: | 2018-05-23 |
公开(公告)号: | CN110545771B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | B·约翰逊;S·克莱斯肯斯;J·R·奈德特;K·M·巴利格;M·A·小莫林;T·A·雷;T·A·索尔森;V·史蒂文斯 | 申请(专利权)人: | 金伯利-克拉克环球有限公司 |
主分类号: | A61F13/49 | 分类号: | A61F13/49;A61F13/496 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开口 侧边 闭合 吸收 制品 | ||
1.一种包括前区、裆区和后区的吸收制品,所述制品具有第一侧边缘和第二侧边缘,并且还包括:
吸收插件,所述吸收插件包括外覆层、衬里和设置在所述外覆层与所述衬里之间的吸收芯;
第一腰片,所述第一腰片贯穿第一附接区域联接到所述吸收插件;以及
第二腰片,所述第二腰片贯穿第二附接区域联接到所述吸收插件,所述第二腰片靠近所述吸收制品的所述第一侧边缘和所述吸收制品的所述第二侧边缘联接到所述第一腰片,并且还包括弱化区域,
其中所述第二附接区域包括附接区域顶部边缘、附接区域底部边缘、附接区域纵向侧边缘和总附接区域区,
其中所述第二附接区域还包括低强度附接区和高强度附接区,所述高强度附接区靠近所述附接区域底部边缘设置,并且
其中所述低强度附接区具有第一剥离强度,并且所述高强度附接区具有第二剥离强度,所述第二剥离强度大于所述第一剥离强度;
其中所述第二附接区域还包括在纵向方向上延伸的无粘合剂区域,并且其中所述弱化区域与所述无粘合剂区域重叠。
2.如权利要求1所述的吸收制品,其中所述第二附接区域包括贯穿所述低强度附接区设置的第一粘合剂。
3.如权利要求2所述的吸收制品,其中所述第二附接区域包括贯穿所述高强度附接区设置的第二粘合剂,并且其中所述第二粘合剂不同于所述第一粘合剂。
4.如权利要求3所述的吸收制品,其中所述第一粘合剂在静态剪切测试方法中的滴落时间小于4小时,并且其中所述第二粘合剂在静态剪切测试方法中的滴落时间大于或等于4小时。
5.如权利要求2所述的吸收制品,其中所述第一粘合剂贯穿所述高强度附接区的至少一部分设置。
6.如权利要求2所述的吸收制品,其中所述第一粘合剂贯穿整个所述高强度附接区设置。
7.如权利要求2所述的吸收制品,其中所述高强度附接区由多个粘结部构成。
8.如权利要求7所述的吸收制品,其中所述高强度附接区内的所述粘结部的粘结表面积占所述高强度附接区的表面积的25%至75%。
9.如权利要求1所述的吸收制品,其中根据成角度剥离测试方法,所述第一剥离强度小于或等于4 N,并且根据成角度剥离测试方法,所述第二剥离强度大于或等于8 N。
10.如权利要求1所述的吸收制品,其中所述高强度附接区靠近所述第二附接区域的纵向侧边缘之一设置。
11.如权利要求1所述的吸收制品,其中所述第二附接区域的高强度附接区包括第一高强度附接区和第二高强度附接区,所述第一高强度附接区靠近所述第二附接区域的第一纵向侧边缘设置,并且所述第二高强度附接区靠近所述第二附接区域的第二纵向侧边缘设置。
12.如权利要求1所述的吸收制品,其中所述第二附接区域的底部边缘还包括至少一个凹陷部,其中:
所述至少一个凹陷部包括第一凹陷部侧边缘、第二凹陷部侧边缘和凹陷边缘,
所述第一凹陷部侧边缘被定位为与所述第二附接区域的第一纵向侧边缘相距总附接区域宽度的15%至40%,并且
所述第二凹陷部侧边缘被定位为与所述第二附接区域的第二纵向侧边缘相距总附接区域宽度的15%至40%。
13.如权利要求11所述的吸收制品,其中所述第二附接区域包括第一高强度附接区和第二高强度附接区,所述第一高强度附接区靠近所述附接区域底部边缘设置,并且所述第二高强度附接区靠近所述附接区域顶部边缘设置。
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