[发明专利]反射系统、极紫外线曝光工具、光刻曝光工具及光学系统

权利要求书

1.一种反射系统，其特征在于，具有参考轴且与图案源一起使用，所述图案源其上承载一维图案，所述反射系统包括：

仅有三个光学组件的组合，所述仅有三个光学组件相对于彼此依序设置以将入射于所述仅有三个光学组件中的第一光学组件上的极紫外线辐射转移至所述图案源上，

所述仅有三个光学组件中的每一者具有非零光学功率，

所述组合相对于所述图案源设置成固定的空间及光学关系；

其中所述组合表示极紫外线曝光工具的照明单元，

其中所述极紫外线曝光工具包括投影光学器件子系统，所述投影光学器件子系统具有参考轴且被配置成在与所述图案源光学共轭的图像平面上利用仅有两束辐射以N1的减缩因数形成所述图案源的光学图像，

所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的所述极紫外线辐射，

所述照明单元中最靠近所述图案源的最后一个元件具有沿所述一维图案的周期方向的第一空间频率以及沿垂直于所述周期方向的第二空间频率，所述第二空间频率大于所述第一空间频率。

2.根据权利要求1所述的反射系统，其特征在于，所述投影光学器件子系统是仅包括主反射镜及次反射镜的反射投影光学器件子系统。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的反射系统，其特征在于，所述仅有三个光学组件中的至少一者包括蝇眼反射镜。

4.根据权利要求3所述的反射系统，其特征在于，所述图案源定位于所述蝇眼反射镜的构成个别反射元件中。

5.根据权利要求1至2中任一项所述的反射系统，其特征在于，所述图案源包括相移掩模。

6.一种极紫外线曝光工具，其特征在于，含有根据权利要求1至5中任一项所述的被配置为所述极紫外线曝光工具的所述照明单元的反射系统。

7.根据权利要求6所述的极紫外线曝光工具，其特征在于，进一步包括工件，所述工件被定位于所述图像平面处且被配置成能够响应于所述参考轴横向移动。

8.根据权利要求6至7中任一项所述的极紫外线曝光工具，其特征在于，所述一维图案具有第一空间频率，所述光学图像具有第二空间频率，且其中所述极紫外线曝光工具被配置成确保所述第二空间频率为所述第一空间频率的至少两倍。

9.一种光刻曝光工具，其特征在于，具有光学元件串，所述光学元件串被定位成将进入所述光学元件串的极紫外线辐射经由所述光学元件串递送至目标工件，且与图案源一起使用，所述图案源其上承载一维图案，所述光学元件串包括：

照明单元；

投影光学器件子系统，被定位成自所述图案源接收第一衍射束及第二衍射束，并在与所述图案源光学共轭的图像平面中利用仅有的所述第一衍射束及所述第二衍射束以N1的减缩因数形成所述图案源的光学图像，

其中所述图案源被配置成自所述投影光学器件子系统接收所述极紫外线辐射并在所述一维图案处衍射所述极紫外线辐射，以形成所述极紫外线辐射的所述第一衍射束及所述第二衍射束，其中所述一维图案设置于平坦的表面中，

所述照明单元中最靠近所述图案源的最后一个元件具有沿所述一维图案的周期方向的第一空间频率以及沿垂直于所述周期方向的第二空间频率，所述第二空间频率大于所述第一空间频率。

10.根据权利要求9所述的光刻曝光工具，其特征在于：

其中所述一维图案具有第一空间频率，所述光学图像具有第二空间频率，且

其中所述第二空间频率为所述第一空间频率的至少两倍。

11.根据权利要求9至10中任一项所述的光刻曝光工具，其特征在于，所述第一衍射束及所述第二衍射束表示自所述极紫外线辐射形成的分别对应的衍射级，所述衍射级具有相等的绝对值但具有不同的符号。