[发明专利]消光的聚酰胺-PUD有效
申请号: | 201880027399.9 | 申请日: | 2018-04-30 |
公开(公告)号: | CN110603282B | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | G·埃尔德迪;N·波拉麦迪;J·伯德;I·什科夫;C·斯威奇 | 申请(专利权)人: | 路博润先进材料公司 |
主分类号: | C08G69/26 | 分类号: | C08G69/26;C08G18/60;C08G18/12;C08G18/32;C08G69/44;C08G18/44;C08G18/73;C08G69/34 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;唐秀玲 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚酰胺 pud | ||
公开了并入与多异氰酸酯连接的仲或叔聚酰胺链段的部分的聚合物。这些聚合物具有增强的消光特性。所述增强的消光特性来自于在不使用任何单独的细粒度消光添加剂的情况下由所述聚合物产生的固有的消光表面。如细粒度二氧化硅等常规消光剂通常会导致物理特性丧失,如由所述消光剂在涂层中引起的雾度发展和孔隙率。还公开和要求保护这些聚合物和其它聚酰胺、聚氨酯与乙烯基聚合物(丙烯酸酯)的复合物和混杂物。
技术领域
本发明涉及含有聚酰胺和多个氨基甲酸酯键和/或脲键的水性聚合物分散体,其包括衍生自环状脂肪族或芳香族伯胺或仲胺与如羧酸等某种形式的反应性羰基反应的聚酰胺链段。这些聚酰胺出乎意料地对衍生自所述含有聚酰胺和多个氨基甲酸酯键和/或多个脲键聚合物分散体的涂层表面赋予特征在于降低的光泽度读数的纹理。
背景技术
在涂层工业中,有时期望高光泽度、非常光滑的涂层饰面。在其它时间,由于涂层的表面变化,期望一种在多个方向上反射入射光的消光的(降低的光泽度)涂层或油墨表面。已经为不同类型的涂层(溶剂基和水基)开发了多种用于赋予光泽度降低(消光)的机制和产品。涂层工业期望在涂层制造和涂层应用过程的任何阶段对消光程度进行均匀并且一致的控制以及能够容易地调节消光水平。
具有受控粒度的二氧化硅已经广泛用于生产消光饰面。据信,这通过延伸到涂层表面外的二氧化硅颗粒在涂层表面上产生在多个方向上反射光的高点而起作用。此应用中使用的二氧化硅具有多孔结构,所述多孔结构增加最终涂层的孔隙率(更多的二氧化硅、更多的消光和更大的孔隙率)。涂层中的孔隙率降低了其对各种液体的抵抗力,所述液体可能会使涂层变色、使涂层变得有瑕疵或变软或与涂层下方的基材发生不利反应(如引起金属腐蚀)。二氧化硅还对涂层添加了一些不透明性,因为其折射率与大多数黏合剂显著不同。
申请人具有两个较早的申请(US 9,527,961和US 2016/009953),这两个申请描述了含有聚酰胺的聚合物和聚氨酯分散体,其中高百分比的聚酰胺是衍生自哌嗪的叔聚酰胺。
发明内容
本发明涉及含有聚酰胺和多个氨基甲酸酯键和/或多个脲键聚合物在水性介质(例如,水和任选的水溶性有机物)中的分散体,所述聚合物含有来自特定环状脂肪族或芳香族伯或仲胺基团的聚酰胺,所述聚酰胺赋予由水性介质中的聚合物分散体施加的涂层低光泽度(高消光)饰面。这些聚酰胺可用作涂层、油墨或粘合剂的黏合剂中的链段。这些聚酰胺还可以与主要聚合物黏合剂(例如,第二聚合物)分开制备,两者都以分散体的形式置于水性介质中。含有聚酰胺和多个氨基甲酸酯键和/或脲键的聚合物可以在共混物分散在水性介质中之前与第二聚合物共混。或者具有聚酰胺和多个氨基甲酸酯键和/或多个脲键的聚合物和第二聚合物可以各自单独分散在水性介质中,并且然后来自水性介质中的分散颗粒各自可以共混在一起。或者具有聚酰胺的这些聚合物可以任选地与第二聚合物制成母料,并且所述母料可以与一种或多种其它聚合物分散体共混,以产生用于涂层、油墨或粘合剂的黏合剂。黏合剂的聚合物可以是热塑性的、热固性的或弹性体的,并且通常是那些树脂的水性分散体。这些具有其特定聚酰胺的聚合物分散体的独特特征是其赋予最终涂层或油墨纹理化表面的能力,其中所述纹理化表面降低了涂层或油墨饰面的光泽度(增加了消光)。涂层或油墨的聚合物中的聚酰胺的量影响所达到的光泽度降低或消光水平。
具体实施方式
定义:我们将使用括号来指定1)任选地存在的东西,使得一种或多种单体(monomer(s))表示一种单体或多种单体或者(甲基)丙烯酸酯表示甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯;2)限定或进一步定义先前所提及的术语;或者3)列出更窄的实施例。
术语“烃基”或“亚烃基”表示具有直接连接到分子的剩余部分的碳原子并且在本发明的上下文中具有烃或主要是烃特性的基团。此类基团包含纯烃基;也就是说,脂肪族以及任选地含有不改变所述基团的主要烃特性的非烃取代基(含有杂原子)的基团。非烃取代基的实例包含羟基、硝基、氰基(氰基经由C原子连接,并且因此酰基也是如此)、烷氧基、酰基等。适合的杂原子对本领域技术人员而言将是显而易见的,并且包含例如氮、氧和硫。
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