[发明专利]光调制装置有效
申请号: | 201880027823.X | 申请日: | 2018-04-30 |
公开(公告)号: | CN110573945B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 李玹准;林恩政;柳正善;金旼俊;吴东炫;金真弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/1337;B32B27/06;G02F1/13363;B32B7/00;G02B27/01;G02F1/1347;G02F1/137;G02F1/13357;B32B7/035;G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/139;G0 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 梁笑;尚光远 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制 装置 | ||
1.一种光调制装置,包括有源液晶膜层,所述有源液晶膜层具有彼此相对设置的第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底,和存在于所述第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底之间并且包含液晶主体和二色性染料客体的有源液晶层,
其中所述有源液晶层能够在水平取向状态与垂直取向状态之间转换,
所述第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底各自对波长为550nm的光的面内延迟为4,000nm或更大,
所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自为经拉伸的聚合物膜,
所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的第一方向为横向方向,以及所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的第二方向为机器方向,
所述第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底各自的在所述第一方向上的伸长率E1与在垂直于所述第一方向的所述第二方向上的伸长率E2的比率E1/E2为3或更大,以及
所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得由所述第一聚合物膜基底的第一方向与所述第二聚合物膜基底的第一方向形成的角度在0度至10度的范围内。
2.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自为其中在一侧上形成有电极层的电极膜基底,并且所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得所述电极层彼此面对。
3.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底为聚酯膜基底。
4.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的在所述第一方向上的伸长率为20%或更大。
5.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自具有比在所述第一方向上的伸长率E1更大的在第三方向上的伸长率E3,并且在所述第三方向上的伸长率E3与在所述第二方向上的伸长率E2的比率E3/E2为5或更大,所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向二者均形成40度至50度范围内的角度。
6.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的在所述第二方向上的热膨胀系数CTE2与在所述第一方向上的热膨胀系数CTE1的比率CTE2/CTE1为1.5或更大。
7.根据权利要求6所述的光调制装置,其中在所述第二方向上的热膨胀系数CTE2在50ppm/℃至100ppm/℃的范围内。
8.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的在所述第一方向上的弹性模量YM1与在所述第二方向上的弹性模量YM2的比率YM1/YM2为1.5或更大。
9.根据权利要求8所述的光调制装置,其中在所述第一方向上的弹性模量YM1在2GPa至10GPa的范围内。
10.根据权利要求1所述的光调制装置,其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的在所述第一方向上的最大应力MS1与在所述第二方向上的最大应力MS2的比率MS1/MS2为1.5或更大。
11.根据权利要求10所述的光调制装置,其中在所述第一方向上的最大应力MS1在150MPa至250MPa的范围内。
12.一种眼部佩戴物,包括左眼镜片和右眼镜片;以及用于支撑所述左眼镜片和所述右眼镜片的框架,
其中所述左眼镜片和所述右眼镜片各自包括根据权利要求1所述的光调制装置。
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