[发明专利]具有局部洛伦兹力的模块化微波源

权利要求书

1.一种等离子体处理工具，包括：

处理腔室，所述处理腔室限定处理容积；和

多个模块化微波源，所述多个模块化微波源耦接至所述处理腔室，其中所述多个模块化微波源包括：

施加器阵列，所述施加器阵列位于形成所述处理腔室的外壁的一部分的介电板上；和

微波放大模块阵列，其中每一微波放大模块耦接至所述施加器阵列中的施加器之一或更多者；和

多个磁体，其中所述磁体围绕所述施加器之一或更多者定位，并且其中所述多个磁体彼此串联电耦接，并且其中所述多个磁体完全位于所述处理容积之外。

2.如权利要求1所述的等离子体处理工具，其中所述多个磁体为电磁体。

3.如权利要求2所述的等离子体处理工具，其中每一电磁体形成为围绕所述施加器之一。

4.如权利要求3所述的等离子体处理工具，其中每一电磁体形成为围绕一个以上的施加器。

5.如权利要求1所述的等离子体处理工具，其中所述多个磁体之一或更多者集成在所述施加器的至少一者的壳体内。

6.如权利要求1所述的等离子体处理工具，其中所述多个磁体之一或更多者嵌入所述介电板内。

7.如权利要求1所述的等离子体处理工具，其中所述磁体的磁场强度大于10G。

8.如权利要求1所述的等离子体处理工具，其中选择所述磁体的磁场强度，而使得所述等离子体处理工具所产生的等离子体经历电子回旋共振(ECR)。

9.如权利要求1所述的等离子体处理工具，进一步包括位于所述施加器之间的多个等离子体传感器，其中藉由所述多个等离子体传感器之一或更多者提供用于每一微波放大模块的反馈控制数据。

10.一种模块化微波施加器，包括：

介电谐振空腔；

施加器壳体，所述施加器壳体围绕所述介电谐振空腔的外壁而形成；

单极，所述单极沿着所述介电谐振空腔的轴向中心向下延伸，并进入形成于所述介电谐振空腔的中心的沟道；和

磁体，所述磁体嵌入所述施加器壳体内，其中所述磁体与一个或多个附加磁体串联连接。

11.如权利要求10所述的模块化微波施加器，其中所述磁体为电磁体，并且其中所述电磁体围绕所述介电谐振空腔而形成一个或更多个环。