[发明专利]气体测量系统

权利要求书

1.一种气体测量系统，所述气体测量系统包括：

-相干光源(1、201、301、401)，所述相干光源发射光束；

-探测器(8、208、308、408)；

-光路(2、202、302)，所述光路构造在所述光源(1、201、301、401)和所述探测器(8、208、308、408)之间；

-气体室(4、204、304、404)，所述气体室布置在所述光源(1、201、301、401)和所述探测器(8、208、308、408)之间的光路中，使得所述探测器(8、208、308、408)接收穿过所述气体室(4、204、304、404)透射的光；和

-光学元件(3、203、303、403)，所述光学元件布置在所述光源(1、201、301、401)和所述气体室(4、204、304、404)之间的光路(2、202、302)中；

其中，所述气体室(4、204、304、404)包括多孔陶瓷(11、211、311、411)；

其中，所述气体室(4、204、304、404)具有光学路径长度，所述光学路径长度是所述气体室(4、204、304、404)的实际层厚度的数倍；

其特征在于，所述光学元件(3、203、303、403)

i.是光学透明的窗并且基于所述光束的发散实现所述光束的扩张；

或

ii.包括使所述光束变形的漫射器光学元件或者至少一个衍射光学元件，

使得由所述光源(1、201、301、401)发出的光束在入射到所述气体室(4、204、304、404)中时被扩张并且不聚焦。

2.根据权利要求1所述的气体测量系统，其特征在于，所述光学路径长度比所述气体室(4、204、304、404)的实际层厚度长至少10倍、尤其长至少50倍并且优选长数百倍。

3.根据权利要求1所述的气体测量系统，其特征在于，所述气体室(4、204、304、404)和/或所述多孔陶瓷是可更换的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述气体测量系统包括过程窗。

5.根据权利要求4所述的气体测量系统，其特征在于，所述光学元件(3、203、303、403)起过程窗作用。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述气体测量系统包括另外的光学元件(9、209、309、409)，所述另外的光学元件在所述气体室(4、204、304、404)和所述探测器(8、208、308、408)之间布置在所述光路(2、202、302)中并且包括光学窗或者反射器。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述相干光源(1、201、301、401)是激光器、尤其是能够调谐的激光器。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述探测器(8、208、308、408)是光电探测器，尤其是热电堆探测器、辐射热测量计、热电探测器、光电倍增器、光电二极管或者光敏电阻。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述气体测量系统还包括在所述气体室(4、204、304、404)之前连接的样品制备单元(7)。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述气体测量系统是NeSSI兼容的。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的气体测量系统，其特征在于，所述多孔陶瓷(11、211、311、411)是纳米多孔或者微米多孔的。