[发明专利]抗反射构件在审
| 申请号： | 201880031968.7 | 申请日： | 2018-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110622045A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 高野香织;田中大直;关隆史;后藤正直 | 申请（专利权）人： | JXTG能源株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张德斌;闫加贺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 凸部 凹凸表面 抗反射构件 凹部 傅立叶变换 抗反射效果 耐磨性 原点 大致中心 方向垂直 方向延伸 观察图像 凹凸的 圆环状 变小 波数 下沿 俯视 花样 图像 延伸 | ||
1.一种抗反射构件，其具有由凸部及凹部划分的凹凸表面，且
通过对上述凹凸表面的观察图像实施二维高速傅立叶变换处理所得的傅立叶变换图像，呈现以波数的绝对值为0μm-1的原点作为大致中心的圆形或圆环状的花样，
上述凸部及上述凹部于俯视下沿无规的方向延伸，
于以与上述凸部的延伸方向垂直的面切断所得的上述凸部的剖面中，上述凸部的宽度自上述凸部的底部朝向顶部变小，距上述底部为0.95D的高度上的上述凸部的宽度W1与距上述底部为0.05D的高度上的上述凸部的宽度W2满足0.04P＜W1＜0.21P、0.79P＜W2＜0.96P及4.0＜W2/W1≦19，上述D为上述凸部的高度，上述P为上述凹凸表面的凹凸的平均间距。
2.如权利要求1所述的抗反射构件，其中，上述凹凸表面的凹凸的平均深度在200～300nm的范围内。
3.如权利要求1或2所述的抗反射构件，其中，
上述凹凸表面是由多个凸部及包围上述多个凸部的各者的凹部划分，且
上述多个凸部中的具有上述凹凸表面的凹凸的平均间距的7倍以下的周长的凸部的周长的合计为上述多个凸部周长的合计的10％以下。
4.如权利要求1或2所述的抗反射构件，其中，
上述凹凸表面是由多个凹部及包围上述多个凹部的各者的凸部划分，且
上述多个凹部中的具有上述凹凸表面的凹凸的平均间距的7倍以下的周长的凹部的周长的合计为上述多个凹部的周长的合计的10％以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的抗反射构件，其中，上述凹凸表面的凹凸的平均间距在150～250nm的范围内。
6.一种抗反射构件，其具有由凸部及凹部划分的凹凸表面，且
通过对上述凹凸表面的观察图像实施二维高速傅立叶变换处理所得的傅立叶变换图像，呈现以波数的绝对值为0μm-1的原点作为大致中心的圆形或圆环状的花样，
上述凸部的宽度自上述凸部的底部朝向顶部变小，
上述凹凸表面的凹凸的平均间距在150～250nm的范围内，
上述凹凸表面的凹凸的平均深度在90～300nm的范围内，
上述凸部的纵横比在0.4～2的范围内。
7.如权利要求6所述的抗反射构件，其中，上述凸部的纵横比在0.8～2的范围内。
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