[发明专利]用于检流计扫描仪校准的设备、系统和方法

权利要求书

1.一种用于检流计扫描仪校准的设备，包括：

光源，其被定位成产生基准源光束；以及

光学基准图案生成器，其被定位成用所述基准源光束在激光处理目标上产生至少一个瞬态光学基准，所述激光处理目标位于激光扫描仪的视场中，所述激光扫描仪被定位成在所述激光处理目标上扫描激光处理光束，使得所述激光处理光束在所述激光处理目标上的定位变得相对于所述至少一个瞬态光学基准能够调整。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述激光处理目标包括粉末材料，所述粉末材料被定位成漫反射所述至少一个瞬态光学基准。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述粉末材料形成第一层，所述第一层用所述激光处理光束被选择性地处理，并且额外的粉末材料被沉积，以形成一个或多个后续层，其中，所述至少一个瞬态光学基准在所述第一层处和所述一个或多个后续层中的至少一个处产生，以提供所述激光处理光束的所述扫描的原位校准。

4.根据权利要求1所述的设备，还包括光学检测器，所述光学检测器通过所述激光扫描仪光学耦合到所述激光处理目标，基于所述激光扫描仪的一个或多个扫描光学器件的扫描位置到所述视场的子场视场，其中，所述光学检测器被定位成检测所述子场视场中的所述至少一个瞬态光学基准。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述激光扫描仪被配置为针对所述一个或多个扫描光学器件的不同扫描位置，将所述激光处理光束引导至所述子场视场中的预定位置。

6.根据权利要求4所述的设备，其中，所述光学检测器包括相机、光电二极管、CMOS检测器和CCD检测器中的一个或多个。

7.根据权利要求4所述的设备，其中，所述光学检测器被定位成在所述激光处理光束未上电或处于非处理功率的同时检测所述至少一个瞬态光学基准。

8.根据权利要求4所述的设备，还包括控制器，所述控制器耦合到所述光学检测器和所述激光扫描仪，并且被配置为将所述至少一个瞬态光学基准的检测位置与所述激光处理光束的位置进行比较，以基于所述比较来更新扫描误差校正表，并且根据所更新的扫描误差校正表来扫描所述激光处理光束。

9.根据权利要求8所述的设备，还包括所述激光扫描仪。

10.根据权利要求9所述的设备，还包括激光处理光束源，其被定位成生成所述激光处理光束并且将所述激光处理光束引导至所述激光扫描仪。

11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一个瞬态光学基准被成形为环形，并且调整所述激光处理光束相对于所述至少一个瞬态光学基准的所述定位是基于对所述环形的检测的。

12.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一个瞬态光学基准具有与所述激光处理光束的波长间隔开的波长。

13.根据权利要求1所述的设备，其中，所述基准图案生成器包括衍射光学元件，所述衍射光学元件被定位成将所述基准源光束衍射成衍射光束，以产生所述至少一个瞬态光学基准。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，所述至少一个瞬态光学基准包括多个瞬态光学基准，所述多个瞬态光学基准在所述激光扫描仪的所述视场中以预定基准图案间隔开。

15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述激光扫描仪被定位成将所述激光处理光束引导至所述视场的与相应瞬态光学基准的位置相关联的不同子场。

16.根据权利要求13所述的设备，还包括光学检测器，所述光学检测器被定位成检测由所述激光处理目标或邻近所述激光处理目标的表面反射的所述衍射光束的零阶部分。