[发明专利]碘化铝用作离子源材料时的共伴氢气

权利要求书

1.一种离子注入系统，包括：

碘化铝源材料；

离子源，其配置成使所述碘化铝源材料离子化并由此形成离子束；

引氢装置，其配置成将含氢的还原剂引入所述离子源；

束线总成，其配置成选择性输送所述离子束；以及

终端站，其配置成接受离子束以将离子注入到工件中。

2.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述引氢装置包括共伴氢气源，其中，所述还原剂中的氢改变非导材料的化学性质以产生挥发性气体副产物。

3.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述引氢装置包括加压气体源。

4.根据权利要求3所述的离子注入系统，其中，所述加压气体源包括氢气和磷化氢中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的离子注入系统，进一步包括引水装置，其配置成将水蒸汽引入到所述离子注入系统。

6.根据权利要求1所述的离子注入系统，进一步包括真空系统，其配置成基本上排空所述离子注入系统的一个或多个封闭部分。

7.根据权利要求6所述的离子注入系统，其中，所述离子注入系统的一个或多个封闭部分包括所述离子源。

8.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述碘化铝源材料呈固体形式和粉末形式之一。

9.根据权利要求8所述的离子注入系统，进一步包括操作性耦接到所述离子源的源材料汽化器，其中，所述源材料汽化器配置成汽化所述碘化铝源材料。

10.一种将铝离子注入到工件内的方法，所述方法包括：

汽化碘化铝源材料；

将汽化的碘化铝源材料提供给离子注入系统的离子源；

将共伴氢气提供给所述离子源；

在所述离子源中离子化所述碘化铝源材料，其中，所述共伴氢气与汽化的碘化铝在所述离子源内发生反应以产生挥发性碘化氢气体；

通过真空系统除去所述挥发性碘化氢气体；以及

将离子化的碘化铝源材料中的铝离子注入到工件中。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述碘化铝源材料最初呈固体形式和粉末形式之一。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，将共伴氢气提供给所述离子源包括将氢气和磷化氢中的一种或多种提供给所述离子源。

13.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：通过将水蒸汽引入到所述离子注入系统的一个或多个内部组件，从所述离子注入系统的一个或多个内部组件中清除残余的碘化铝和碘化物中的一种或多种。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，将水蒸汽引入所述离子注入系统的内部组件包括将大气空气引入到所述离子注入系统的一个或多个内部组件。

15.根据权利要求13所述的方法，其中，将水蒸汽引入到所述离子注入系统的一个或多个内部组件包括控制水流在真空下通过供给管线流向一个或多个内部组件，以使水汽化。

16.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：排空所述离子注入系统，从其中基本上除去水蒸汽以及残余的碘化氢和I₂。

17.一种使用产生残余碘化铝的碘化铝源材料清洁离子注入系统的方法，所述方法包括：

将共伴氢气引入到所述离子注入系统，残余的碘化铝和碘化物与所述共伴氢气在其中发生反应，以形成碘化氢和I₂中的一种或多种；以及

将所述离子注入系统排空，从其中除去碘化氢。