[发明专利]烧结体及其制造方法有效
申请号: | 201880034398.7 | 申请日: | 2018-02-15 |
公开(公告)号: | CN110662729B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 石井显人;冈村克己 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C04B35/5835 | 分类号: | C04B35/5835;B23B27/14;B23B27/18;B23B27/20;C04B35/5831;C04B35/628;C04B35/645 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张苏娜;樊晓焕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烧结 及其 制造 方法 | ||
1.一种烧结体,该烧结体包含第一相和第二相,其中
所述第一相由立方氮化硼颗粒构成,
所述第二相由第一材料构成,所述第一材料为其中Al2O3分散在晶粒边界和晶粒这两者或其中一者中的部分稳定ZrO2,
所述第二相被覆所述第一相的表面,并且所述第一相与所述第二相的接触比率为80%以上99.5%以下,所述接触比率通过下式计算得到
(LA/LB)×100,
其中LB是两个以上所述第一相彼此接触从而形成的集合体的轮廓线和所述第一相以单体的形成存在时的单体的周长的长度的总和;LA是在所述轮廓线和所述单体的周长中,所述第二相与所述单体和所述集合体直接接触的部分的长度的总和,并且
当将所述立方氮化硼颗粒之中彼此相邻并且直接接触的两个以上的立方氮化硼颗粒定义为接触体,Di表示所述接触体的整个周长的长度,n表示所述立方氮化硼颗粒彼此直接接触的接触位置的数量,dk表示各个所述接触位置的长度,并且∑dk表示所述接触位置的总长度,其中k=1至n时,则满足如下关系式(I)和(II):
[(Dii-Di)/Dii]×100≤50...(II)。
2.根据权利要求1所述的烧结体,其中所述烧结体中包含30体积%以上并且小于50体积%的所述第一相,并且满足以下关系式(II'):
[(Dii-Di)/Dii]×100≤3...(II')。
3.根据权利要求1所述的烧结体,其中所述烧结体中包含50体积%以上并且小于76体积%的所述第一相,并且满足以下关系式(II”):
[(Dii-Di)/Dii]×100≤20...(II”)。
4.根据权利要求1所述的烧结体,其中所述烧结体中包含76体积%以上并且小于100体积%的所述第一相。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的烧结体,进一步包含第三相,其中
所述第三相由至少一种这样的化合物构成,所述化合物由选自由元素周期表中的第4族元素、第5族元素、第6族元素、Al和Si组成的组中的至少一种元素以及选自由碳、氮和氧组成的组中的至少一种元素构成。
6.一种制造权利要求1所述的烧结体的方法,所述烧结体包含由立方氮化硼颗粒构成的第一相和由第一材料构成的第二相,所述方法包括:
通过用所述第一材料被覆所述立方氮化硼颗粒而获得烧结前体的第一步骤;以及
通过以大于1GPa且小于或等于20GPa的压力对所述烧结前体进行烧结而获得所述烧结体的第二步骤,其中
所述第一材料为其中Al2O3分散在晶粒边界和晶粒这两者或其中一者中的部分稳定ZrO2,
所述第二相被覆所述第一相的表面,并且所述第一相与所述第二相的接触比率为80%以上99.5%以下。
7.根据权利要求6所述的制造烧结体的方法,其中
所述第一步骤包括获得包含所述立方氮化硼颗粒和结合剂的粒状混合物的第一预步骤,
在所述第一步骤中,通过用在所述第一预步骤中获得的所述混合物替代所述立方氮化硼颗粒,并用所述第一材料被覆所述混合物,从而获得所述烧结前体,
所述烧结体进一步包含由所述结合剂构成的第三相,
所述结合剂由至少一种这样的化合物构成,所述化合物由选自由元素周期表中的第4族元素、第5族元素、第6族元素、Al和Si组成的组中的至少一种元素以及选自由碳、氮和氧组成的组中的至少一种元素构成。
8.根据权利要求7所述的制造烧结体的方法,其中
所述第二步骤包括通过将所述烧结前体和所述结合剂混合而获得混合物前体的第二预步骤,并且
在所述第二步骤中,通过用在所述第二预步骤中获得的所述混合物前体替代所述烧结前体,并以大于1GPa且小于或等于20GPa的压力对所述混合物前体进行烧结,从而获得所述烧结体。
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