[发明专利]具有高光稳定性的经涂覆的粉末

权利要求书

1.经涂覆的粉末，其包括：

(a)颗粒，和

(b)在颗粒的表面上的涂层，其包括

(1)二氧化硅部分，

(2)选自单有机氧基硅烷部分、双有机氧基硅烷部分和三有机氧基硅烷部分的有机氧基硅烷部分，以及

(3)聚(二烷基)硅氧烷部分，

其中有机氧基硅烷部分和二氧化硅部分的以SiO₂当量计的重量量为总的经涂覆的粉末的重量的至少0.0625％，基于每m²/g的待涂覆的颗粒的比表面积。

2.制备经涂覆的粉末的方法，其包括通过使组合物聚合而用聚合物来涂覆颗粒，所述组合物包括：

(i)颗粒，

(ii)选自四烷氧基硅烷、聚(四烷氧基硅烷)及其混合物的第一烷氧基硅烷，

(iii)选自单有机烷氧基硅烷、双有机烷氧基硅烷、三有机烷氧基硅烷及其混合物的有机烷氧基硅烷，和

(iv)选自聚(二烷基)硅氧烷及其混合物的第二烷氧基硅烷，

其中有机氧基硅烷部分和二氧化硅部分的以SiO₂当量计的重量量为总的经涂覆的粉末的重量的至少0.0625％，基于每m²/g的待涂覆的颗粒的比表面积。

3.经涂覆的粉末，其包括：

(a)颗粒，和

(b)在颗粒的表面上的涂层，其包括

(1)二氧化硅部分，

(2)选自单有机氧基硅烷部分、双有机氧基硅烷部分和三有机氧基硅烷部分的有机氧基硅烷部分，以及

(3)聚(二烷基)硅氧烷部分，

其中经涂覆的粉末是超光稳定的。

4.前述权利要求中任意项的经涂覆的粉末或方法，其中颗粒包含至少一种选自ZnO、TiO₂以及其混合物的氧化物。

5.前述权利要求中任意项的经涂覆的粉末或方法，其中颗粒的平均粒度为10-500nm。

6.前述权利要求中任意项的经涂覆的粉末或方法，其中颗粒的平均粒度为15-150nm。

7.前述权利要求中任意项的经涂覆粉末或方法，其中有机氧基硅烷部分各自具有式R¹_nSiO_4-n，其中n＝1、2或3，并且每个R¹基团独立地选自烷基、烯基、炔基、芳基和杂环基，和/或每个R¹基团具有1-18个碳原子，并且独立地选自烷基、烯基和芳基，和/或每个R¹基团独立地选自烷基、芳基、乙烯基、环氧丙氧基烷基、甲基丙烯酰氧基烷基、氨基烷基和巯基烷基。

8.前述权利要求中任意项的经涂覆的粉末或方法，其中聚(二烷基)硅氧烷部分各自具有式O(SiR²₂)(R²₂SiO)_n(SiR²₂)O或O(SiR²₂)(R²₂SiO)_n(SiR²₂)OR^c，其中n为2至14的整数，每个R²基团为烷基，并且R^c选自H、甲基、乙基和丙基，和/或有机氧基硅烷含有丙基硅烷部分以及聚(二烷基)硅氧烷包括聚二甲基硅氧烷。