[发明专利]用于电化学系统的分离器板有效

专利信息
申请号: 201880035319.4 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN110710036B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: T·斯托尔;C·昆茨 申请(专利权)人: 莱茵兹密封垫有限公司
主分类号: H01M8/0206 分类号: H01M8/0206;H01M8/0258;H01M8/0267;H01M8/2483
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 茅翊忞
地址: 德国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 电化学 系统 分离器
【权利要求书】:

1.一种用于电化学系统(1)的双极板(2),包括两个分离器板(2a、2b),所述分离器板(2a、2b)中的每一个包括:

第一贯通开口(11c),所述第一贯通开口(11c)用于引导冷却剂通过所述分离器板(2a、2b);

活性区域(8),所述活性区域(8)具有用于沿所述分离器板(2a、2b)的第一平坦侧引导反应介质的结构和用于沿所述分离器板(2a、2b)的第二平坦侧上的活性区域(8)的后侧引导冷却剂的结构;

珠缘(7),所述珠缘(7)与所述分离器板(2a、2b)形成为一体,用于至少密封所述活性区域(8);以及

阻隔元件(18、18'、18''),所述阻隔元件(18、18'、18'')与所述分离器板(2a、2b)形成为一体;

其中,所述阻隔元件(18、18'、18'')

a. 布置在所述活性区域(8)和所述珠缘(7)之间

和/或

b. 布置在所述分离器板(2a、2b)的分配区域(20)和所述珠缘(7)之间,其中,所述分配区域(20)构造成用于将所述冷却剂从所述贯通开口(11c)引导到所述活性区域(8)的所述后侧,或者从所述活性区域(8)的所述后侧引导到在所述分离器板(2a、2b)的所述第二平坦侧上的贯通开口(11c);并且

其中,所述阻隔元件(18、18'、18'')形成为使得它们减小或防止反应介质沿着所述珠缘(7)在所述分离器板(2a、2b)的所述第一平坦侧上流动,并经过所述活性区域(8);

所述珠缘(7)将所述第一贯通开口(11c)和所述活性区域(8)两者完全包围在一起,并且所述阻隔元件(18、18'、18'')中的至少一个至少部分地凹陷,用于减少或防止冷却剂在该阻隔元件的在所述活性区域(8)的所述后侧和所述珠缘(7)的内部(21)之间和/或在所述分配区域的后侧和所述珠缘(7)的所述内部(21)之间的区域中、在所述分离器板(2a、2b)的所述第二平坦侧上流动,

其特征在于,所述分离器板(2a、2b)相互连接,其中,所述分离器板(2a、2b)的所述第一贯通开口(11c)以对齐的方式布置,用于形成所述双极板(2)的第一贯通开口(11c),其中,所述分离器板(2a、2b)封围用于引导冷却剂通过所述双极板(2)的腔室(22),并且其中,所述双极板(2)的所述第一贯通开口(11c)与所述腔室(22)流体连接。

2.根据权利要求1所述的双极板(2),其特征在于,具有用于引导冷却剂通过所述分离器板(2a、2b)的第二贯通开口,其中,所述珠缘(7)也完全包围所述第二贯通开口。

3.根据权利要求2所述的双极板(2),其特征在于,所述第一贯通开口(11c)和所述第二贯通开口布置在所述活性区域(8)的位于彼此相对的两侧上。

4.根据权利要求1所述的双极板(2),其特征在于,至少对于所述阻隔元件(18、18'、18'')中的一个或多个,凹陷部(23、23'、23'')在至少一个方向上在整个所述阻隔元件上延伸。

5.根据权利要求1所述的双极板(2),其特征在于,至少对于所述阻隔元件(18、18'、18'')中的一个或多个,凹陷部(23、23'、23'')与所述阻隔元件的边缘间隔开。

6.根据权利要求1所述的双极板(2),其特征在于,至少对于所述阻隔元件(18、18'、18'')中的一个或多个,凹陷部(23、23'、23'')具有细长的形状,并且平行于或基本上平行于所述珠缘(7)的主延伸方向对齐。

7.根据权利要求1所述的双极板(2),其特征在于,至少对于所述阻隔元件(18、18'、18'')中的一个或多个,凹陷部(23、23'、23'')设计为使得它减少至少百分之50的横截面,所述横截面垂直于所述分离器板(2a、2b)的平面的表面平面限定,在所述活性区域(8)的所述后侧和所述分离器板(2a、2b)的所述第二平坦侧上的所述珠缘(7)的所述内部(21)之间的连接部的位置,所述连接部由所述阻隔元件形成。

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