[发明专利]聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体

权利要求书

1.一种聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其特征在于，聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体满足(a)以及(b)的条件，

(a)起泡缺陷的个数密度在50个/平方米以下，起泡的平均高度在2μm以下，起泡个数密度和起泡的平均高度μm之积在20以下，起泡个数密度的单位为个/平方米，

(b)聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体中，高度3μm以上的起泡个数为10个/平方米以下。

2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其特征在于，该层叠体的面积在0.157平方米以上。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其特征在于，所述起泡的内部包埋有碳化物粒子。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其特征在于，所述聚酰亚胺膜和无机基板之间存在厚度5nm～500nm的硅烷偶联剂缩合物层。

5.权利要求1～4中任一项所述的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体的制造方法，其特征在于，预先用被臭氧处理过的超纯水洗涤聚酰亚胺膜，使聚酰亚胺膜和无机基板形成为层叠体后，在350℃以上且小于600℃的温度下进行热处理。

6.根据权利要求5所述的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体的制造方法，其特征在于，使聚酰亚胺膜和无机基板形成为层叠体后，在350℃以上且小于600℃的温度下进行热处理，热处理后以10℃/分钟以上、90℃/分钟以下的速度至少冷却至200℃。