[发明专利]制造可变效率衍射光栅的方法以及衍射光栅

权利要求书

1.一种制造用于近眼式显示器和平视显示器的经调制光学衍射光栅的方法，包括：

-提供基板，

-在所述基板上制造多个临时元件，所述临时元件以包括具有不同元件特性的至少两个周期的周期性图案被布置，

-在所述基板上沉积第一沉积层，以便用所述第一沉积层至少部分地覆盖所述临时元件，

-从所述基板去除所述临时元件，以便在所述基板上形成由所述第一沉积层制成的第一光栅元件的经调制衍射光栅，所述光栅在每个周期内包括多个第一光栅元件和所述第一光栅元件之间的一个或多个间隙，以及

-在去除所述临时元件之后在所述基板上沉积第二沉积层，以便至少部分地填充每个周期内的所述间隙。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一沉积层和第二沉积层使用相同的沉积材料来沉积。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述临时元件是用于将线栅形成为所述衍射光栅的线元件。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述具有不同元件特性的至少两个周期包括具有不同宽度和/或数目的元件，由此经填充因子调制的衍射光栅被形成。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述具有不同元件特性的至少两个周期包括具有不同高度的元件，由此经高度调制的衍射光栅被形成。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一沉积层和/或所述第二沉积层是共形层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在沉积所述第一沉积层之后从所述基板各向异性地去除一层均匀的所述第一沉积层以便暴露所述临时元件。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在沉积所述第二沉积层时，所述第一光栅元件之间的间隙被完全填充。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在沉积所述第二沉积层之后从所述基板各向异性地去除一层均匀的所述第二沉积层。

10.根据权利要求7或9所述的方法，其特征在于，所述去除包括干法蚀刻。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一沉积层和所述第二沉积层使用原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)或其变体来沉积。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述临时元件通过压花或光刻来制造。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述压花或光刻包括光学、电子束或纳米压印光刻。

14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，临时元件通过选择性蚀刻被完全去除。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述蚀刻包括干法蚀刻或湿法蚀刻。

16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一沉积层和所述第二沉积层由无机透明材料制成。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述无机透明材料为金属氧化物或金属氮化物。

18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述无机透明材料具有1.7或更高的折射率。

19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述无机透明材料具有2.0或更高的折射率。