[发明专利]具有双周期性光栅的衍射元件有效

专利信息
申请号: 201880038494.9 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN111065953B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: K·布隆斯泰特 申请(专利权)人: 迪斯帕列斯有限公司
主分类号: G02B27/01 分类号: G02B27/01;G02B27/42;F21V8/00;G02B5/18
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 蔡悦
地址: 芬兰*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 双周 光栅 衍射 元件
【权利要求书】:

1.一种衍射元件,包括:

波导(10, 30, 40, 50),

被布置在所述波导(10, 30, 40, 50)的表面上或内部的衍射向外耦合区域(16, 36,46, 56),所述向外耦合区域(16, 36, 46, 56)包括相对于彼此被侧向地布置且被适配成将在所述波导(10, 30, 40, 50)中传播的光耦合出所述波导(10, 30, 40, 50)的多个子区域(36A, 46A, 56A),其特征在于:

所述子区域(36A, 46A, 56A)各自包括具有在第一方向上的第一周期和在与所述第一方向不同的第二方向上的第二周期的双周期性光栅图案,其中存在具有不同光栅图案的至少两个子区域(36A, 46A, 56A),所述至少两个子区域的光栅图案是不同的,在于它们由限定所述第一和所述第二周期的被不同地成形的周期性地布置的基本特征形成,并且其中所述基本特征具有不同的侧向形状、高度轮廓或者侧向形状和高度轮廓两者。

2.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域(36A, 46A, 56A)的每一者的光栅图案具有相同的第一周期、相同的第二周期,以及在所述第一和第二周期之间的相同角度。

3.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述至少两个子区域(36A, 46A, 56A)的光栅图案被适配成扩展所述元件的出射光瞳并且同时使在所述波导中传播的光向外耦合。

4.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,在每个子区域(36A, 46A, 56A)内,所述光栅图案是侧向地恒定的。

5.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域被以规则栅格布置,以使得它们覆盖所述波导的毗连区域,或者所述子区域被以不规则的形式布置,以使得它们覆盖所述波导的毗连区域。

6.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,包括在所述波导(10, 30, 40, 50)的两个相对的表面上的所述衍射向外耦合区域。

7.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域(36A, 46A, 56A)的每一者的所述双周期性光栅图案不同于任何其他子区域(36A, 46A, 56A)的双周期性光栅图案。

8.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域(36A, 46A, 56A)的所述光栅图案被选择以使得各自用相同的衍射级但以不同的衍射效率来衍射光。

9.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,包括被布置到所述波导的一个或多个衍射向内耦合区域(34),所述一个或多个向内耦合区域(34)被适配成将导向其的光衍射地耦合到所述波导,以供经由全内反射传播到所述向外耦合区域(16, 36, 46, 56)。

10.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域(36A, 46A, 56A)的形状和位置以及所述子区域(36A, 46A, 56A)的光栅图案被选择以使得与能使用单周期性光栅和相同波导材料达成的FOV相比,将单色光的向外耦合区域(16, 36, 46, 56)的FOV在至少一个方向上扩展至少50 %。

11.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,所述子区域(36A, 46A, 56A)的形状和位置以及所述子区域(36A, 46A, 56A)的光栅图案被选择以使得与能使用单周期性光栅和相同波导材料达成的FOV相比,将单色光的向外耦合区域(16, 36, 46, 56)的FOV在至少一个方向上扩展至少75 %。

12.根据权利要求1所述的元件,其特征在于,子区域(36A, 46A, 56A)的数目是10个或更多个,并且每个子区域(36A, 46A, 56A)的大小在所述第一方向和所述第二方向上都为至少十个光栅周期。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪斯帕列斯有限公司,未经迪斯帕列斯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880038494.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top