[发明专利]吸附方法有效
申请号: | 201880038566.X | 申请日: | 2018-06-11 |
公开(公告)号: | CN110770175B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 广川载泰;野一色刚;木村信夫;立石祐一;高桥由起子 | 申请(专利权)人: | 高桥金属株式会社;日本曹达株式会社 |
主分类号: | C02F1/28 | 分类号: | C02F1/28;B01J20/06;B01J20/34;C01G49/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吸附 方法 | ||
1.使用阴离子吸附材料从含有目标阴离子及其他阴离子的水溶液(A)中吸附目标阴离子的方法,其特征在于,至少实施下述两道工序:
工序(1),使pH5.8以下的所述水溶液(A)与所述阴离子吸附材料接触,从而吸附阴离子;以及
随后的工序(2),使含有所述目标阴离子的pH5.2~11的水溶液(B)与所述阴离子吸附材料接触,从而使已被吸附于所述阴离子吸附材料的所述其他阴离子的至少一部分从所述阴离子吸附材料脱附。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,水溶液(B)中的目标阴离子的浓度为5ppm以上。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在工序(2)之后,进一步实施:
工序(3),使pH11.5以上的水溶液(C)与阴离子吸附材料接触,从而将目标阴离子从阴离子吸附材料脱附至水溶液(C)中。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,在工序(3)之后,进一步实施:工序(4),将阴离子吸附材料再生;
并且反复实施工序(1)~(4)。
5.如权利要求4所述的方法,其中,工序(4)为使pH2~5的水溶液(D)与阴离子吸附材料接触的工序。
6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,目标阴离子为选自磷酸根离子、亚磷酸根离子、次磷酸根离子、砷酸根离子、亚砷酸根离子、氟离子、硒酸根离子、碘离子及碘酸根离子中的至少1种。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,水溶液(A)含有选自硫酸根离子及硝酸根离子中的至少1种作为其他阴离子。
8.如权利要求1或2所述的方法,其中,水溶液(A)中的(目标阴离子的总量)/(其他阴离子的总量)的质量比为0.01以上。
9.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,阴离子吸附材料以羟基氧化铁为吸附成分。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,羟基氧化铁为β-羟基氧化铁。
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